水疱性類天疱瘡発症の新たな機序；掻破とNETosis

大疱性类天疱疮发展的新机制：抓挠和NETosis

• 批准号: 22K08436
• 负责人: 鶴田 大輔
• 金额: $ 2.41万
• 依托单位: Osaka Metropolitan University
• 依托单位国家: 日本
• 项目类别: Grant-in-Aid for Scientific Research (C)
• 财政年份: 2022
• 资助国家: 日本
• 起止时间: 2022-04-01 至 2025-03-31
• 项目状态: 未结题
• 来源: https://kaken.nii.ac.jp/grant/KAKENHI-PROJECT-22K08436/
• 关键词: NETosis; 後天性表皮水疱症; 搔破; 類天疱瘡

類天疱瘡疾患では掻破などの物理的刺激が水疱形成を誘導する可能性が示唆されるが、その機序は明らかではない。我々は、皮膚への物理的刺激により表皮ケラチノサイトがストレス応答分子を放出し、放出されたストレス応答分子が局所の好中球を活性化しNETosisを引き起こすことで水疱形成を誘導すると仮説を立て、ex vivoモデル、マウスモデル、患者標本を用いて検証する。2022年度は、患者皮疹部にてNETosisが存在するかどうかを免疫組織化学で確認した。好中球マーカであるMPOとNETosisマーカであるシトルリン化ヒストンに対する抗体を用いて二重染色を行ったところ、類天疱瘡疾患の一つである後天性表皮水疱症の患者皮疹部にて共局在が認められた。また、今後の掻破制限実験の予備実験として、リューベック大学のDr. Ralf Ludwigより供与された病原性抗マウスコラーゲンVII抗体を用いて、後天性表皮水疱症マウスモデルを当研究室で再現した。同マウスモデルでMPOとシトルリン化ヒストンに対する二重染色を行ったところ、こちらも皮疹部にて共局在が認められた。以上より、後天性表皮水疱症ヒト患者及びモデルマウスの皮疹部にNETosisが局在することを確認した。

Pemphigoid disease is caused by physical stimuli that induce blister formation, and the mechanisms are clearly identified. The physical stimulation of the skin, the release of response molecules from the epidermis, the activation of response molecules, the initiation of blister formation, the establishment of ex-vivo responses, the release of response molecules, and the use of evidence in patients. In 2022, the presence of NETosis was confirmed by immunohistochemistry. In the case of pemphigoid disease, the skin rash of patients with acquired epidermal blister disease was identified by double staining with antibodies. The future of the University's Dr. Ralf Ludwig's contribution to the development of pathogenic anti-epidermal VII antibodies and acquired epidermal blistering disease in the laboratory The same MPO is used to detect the presence of a double stain. The above mentioned cases of acquired epidermal blistering and rash are confirmed.