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Niedertemperatur-Plasmaabscheidung von Perowskit-Dünnschichten auf Folien unedler Metalle und auf Polymerfolien

基底金属箔和聚合物箔上钙钛矿薄膜的低温等离子体沉积

基本信息

批准号：
61887668
负责人：
Professor Dr.-Ing. Gerald Gerlach
金额：
--
依托单位：
Institut für Festkörperelektronik (IFE)
依托单位国家：
德国
项目类别：
Research Grants
财政年份：
2007
资助国家：
德国
起止时间：
2006-12-31 至 2009-12-31
项目状态：
已结题

来源：
https://gepris.dfg.de/gepris/projekt/61887668?language=en
关键词：
Niedertemperatur Plasmaabscheidung von Perowskit nnschichten

项目摘要

Infolge der Entwicklung oxidischer Dünnschichten als high-k Dielektrika und in nichtflüchtigen Speichern (FeRAMs) für die Mikroelektronik sowie als ferroelektrisches Sensor- und Aktuatormaterial in der Mikrosystemtechnik hat die Entwicklung komplexer Oxide (z.B. perowskitisches PZT) eine große Bedeutung erlangt. Durch die Verwendung in der Siliziumtechnologie sind problemlos Temperaturen von 500...800°C nutzbar, wo sich die entsprechende Kristallstruktur aufbaut. Im hier vorgeschlagenen Projekt sollen solche komplexen Oxide auf unedlen Metall- und Polymerfolien abgeschieden werden, da dadurch eine viel großflächigere Abscheidung sowie ein viel breiteres Anwendungsspektrum möglich werden. Um die für solche Substratmaterialien niedrigen Temperaturen zu erreichen, soll eine Plasmastrahl-Technologie Anwendung finden, die beim Projektpartner (Dr. Deyneka) entwickelt wird. Zur Vertiefung des Verständnisses der Elementarprozesse im reaktiven Plasma werden in-situ Diagnostikverfahren wie Emissionsspektroskopie, zeitaufgelöste Langmuirsondenmessung und Massenspektrometrie im Abscheidereaktor realisiert. Im Projekt hier soll durch eine Bewertung der Mikrostruktur und der chemischen Zusammensetzung der Schichten mit XRD, XPS, GD-OES, SIMS, SEM und TEM die chemische Wechselwirkung der abgeschiedenen Schicht mit dem Substrat bei niedrigen Abscheidetemperaturen aufgeklärt werden. Optische, dielektrische und fotoelektrische Schichteigenschaften werden mit Standardmessverfahren ermittelt, ebenso ferroelektrische Schichteigenschaften durch Messung der C-V- und P-E-Hysteresekurven sowie die Domänenstruktur der Schichten und deren piezoelektrische Eigenschaften durch Rasterkraftmikroskopie. Tiefenprofile physikalischer Eigenschaften werden durch Nanoindentation (elastische Eigenschaften) und die Erzeugung thermischer Wellen im Ferroelektrikum durch die Laserintensitätsmodulationsmethode (spontane Polarisation) bestimmt. Der Projektpartner bestimmt zusätzlich das Brechungs- und Absorptionsindexprofil durch einfallswinkelabhängige, spektroskopische Ellipsometrie. Vorgesehen ist die Anwendung auf neue Bauelementkonzepte und der Aufbau entsprechender Demonstratoren.

微电子系统技术中的铁电子传感器和执行器材料的高 k 介电常数和 Nichtflüchtigen Speichern (FeRAM) 的信息 (z.B. perowskitisches PZT) eine große Bedeutung erlangt。在 500...800°C 温度下的硅技术问题中，我们将讨论 Kristallstruktur aufbaut。我的原始项目所涉及的氧化物复合材料是金属和聚合物的复合材料，它是一种非常大的复合材料，它是一种复合材料。 um die für solche Substratmaterialien niedrigenTemperen zu erreichen, soll eine Plasmastrahl-Technologie Anwendung finden, die beim Projektpartner (Dr. Deyneka) entwickelt wird。 Zur Vertiefung des Verständnisses der Elementarprozesse im reaktiven Plasma werden in-situ Diagnostikverfahren wie Emissionsspectroskopie, zeitaufgelöste Langmuirsondenmessung and Massenspektrometrie im Abscheidereaktor realisiert. Im Projekt hier soll durch eine Bewertung der Mikrostruktur und der chemischen Zusammensetzung der Schichten mit XRD, XPS, GD-OES, SIMS, SEM und TEM die chemische Wechselwirkung der abgeschiedenen Schicht mit dem Substrat bei niedrigen AbscheideTemperaturen奥夫格克拉特韦尔登。光学、光电和摄影电子技术与标准测量方法相结合，在 C-V- 和 P-E-Hysteresekurven 的测量中使用铁电技术技术，以实现机械结构和压电电子技术的结构 Rasterkraftmikroskopie 的特征。 Tiefenprofile Physikalischer Eigenschaften werden durch Nanoindentation (elastische Eigenschaften) and die Erzeugung thermischer Wellen im Ferroelekum durch die Laserintensitätsmodulationsmethod (spontane Polarization) bestimmt.项目合作伙伴的最佳测量和吸收指数曲线是在椭圆形光谱中进行的。 Vorgesehen ist die Anwendung auf neue Bauelementkonzepte and der Aufbau entsprechender Demonstratoren。