ZnSe量子井戸箱の作製技術の開発

ZnSe量子井盒制备技术的开发

基本信息

  • 批准号:
    08750001
  • 负责人:
  • 金额:
    $ 0.58万
  • 依托单位:
  • 依托单位国家:
    日本
  • 项目类别:
    Grant-in-Aid for Encouragement of Young Scientists (A)
  • 财政年份:
    1996
  • 资助国家:
    日本
  • 起止时间:
    1996 至 无数据
  • 项目状态:
    已结题

项目摘要

半導体超格子、ならびに量子細線、量子井戸箱などの半導体ナノ構造が示す特異な物性を電子デバイスや光デバイスに応用していくためには、ヘテロ界面での原子配列制御が重要なポイントであり、量子サイズデバイスの実現には良質な結晶性と原子レベルでの制御性を兼ね備えたプロセス技術の開発が必要である。本研究では、II-VI族化合物半導体のヘテロ成長過程を明らかにすることにより、自己組織化を利用した量子サイズデバイスの作製技術を確立することを目的として研究を進めた。有機金属気相成長法によるZnSe/GaAsおよびZnSe/MgSヘテロ成長過程を、原子間力顕微鏡、高分解能X線回折測定と光学測定により明らかにした。トリスジメチルアミノヒ素を用いてGaAs表面を熱処理することにより原子レベルで平坦な表面を得ることができ、GaAs表面の原子種の制御が成長したZnSe膜の結晶性と光学特性に強く依存することを示した。界面原子種の制御により、ZnSe/GaAs界面ではZn-Asボンド、ZnSe/MgS界面ではZn-Sボンドを形成することにより良質な膜の成長が可能であることを明らかにした。有機金属分子線成長法を用いてZnSe/GaAs表面上にCdSe量子箱の作製を行った。1.5〜4分子層CdSeを堆積した表面では、直径68nm、高さ17nm程度の均一なサイズのドットが形成され、自己組織化によるCdSe量子箱の形成が可能であることを確認した。ドット密度はCdSe堆積量の増加に伴い1.2×10^9cm^<-2>まで増加するが、5分子層堆積するとドットのコアレッセンスが生じて(311)Aファセットを持つ3次元島が形成され、CdSe/ZnSeヘテロ成長初期過程がわかった。
Semiconductor superlattice, quantum fine wire, quantum well, semiconductor structure, electron structure, optical structure This study aims to clarify the growth process of II-VI compound semiconductors and to establish the manufacturing technology of self-organization and utilization of quantum devices. Organic metal phase growth method for ZnSe/GaAs and ZnSe/MgS crystal growth process, atomic force microscopy, high resolution energy X-ray reflection measurement and optical measurement The growth of atomic species on GaAs surface is strongly dependent on the crystallinity and optical properties of ZnSe film. The formation of Zn-As and ZnSe/MgS interface atoms and the growth of good quality films are possible. Organic metal molecular wire growth method is used to fabricate CdSe quantum boxes on ZnSe/GaAs surfaces. 1.5 ~ 4 molecular layers CdSe deposition on the surface, diameter 68nm, height 17nm uniform, uniform, self-organized CdSe quantum box formation is possible. The density of CdSe increases with the increase of CdSe accumulation amount, which is 1.2× 10^9 cm ^<-2>. The density of CdSe increases with the increase of CdSe accumulation amount. The density of CdSe increases with the increase of CdSe accumulation amount. The density of CdSe increases with the increase of CdSe accumulation amount.

项目成果

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专利数量(0)
H.Suzuki: "Purge effect on heterointerfaces of ZnSe/MgS superlattices grown by metalorganic vapor phase epitaxy" Jpn.J.Appl.Phys.35. L1658-L1661 (1996)
H.Suzuki:“金属有机气相外延生长的 ZnSe/MgS 超晶格异质界面的净化效应”Jpn.J.Appl.Phys.35。
  • DOI:
  • 发表时间:
  • 期刊:
  • 影响因子:
    0
  • 作者:
  • 通讯作者:
K.Uesugi: "Atomic force microscopy study of ZnSe/GaAs heteroepitaxy processes by metalorganic vapor phase epitaxy" Applied Surface Science. (印刷中). (1997)
K.Uesugi:“通过金属有机气相外延进行 ZnSe/GaAs 异质外延过程的原子力显微镜研究”《应用表面科学》(出版中)。
  • DOI:
  • 发表时间:
  • 期刊:
  • 影响因子:
    0
  • 作者:
  • 通讯作者:
M.Arita: "Self-organized CdSe quantum dots on (100) ZnSe/GaAs surfaces grown by metalorganic molecular beam epitaxy" Lpn.J.Appl.Phys.(印刷中). (1997)
M.Arita:“通过金属有机分子束外延生长在 (100) ZnSe/GaAs 表面上的自组织 CdSe 量子点”Lpn.J.Appl.Phys(出版中)。
  • DOI:
  • 发表时间:
  • 期刊:
  • 影响因子:
    0
  • 作者:
  • 通讯作者:
K.Uesugi: "Initial growth processes of ZnSe on cleaned GaAs (001) surfaces by metalorganic vapor phase epitaxy" Jpn.J.Appl.Phys.35. L1006-L1008 (1996)
K.Uesugi:“通过金属有机气相外延在清洁的 GaAs (001) 表面上进行 ZnSe 的初始生长过程”Jpn.J.Appl.Phys.35。
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  • 通讯作者:
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