Control of thin-film transistor characteristics using amorphous oxide semiconductors of simple composition
Control of thin-film transistor characteristics using amorphous oxide semiconductors of simple composition
批准号:
26790051
负责人:
AIKAWA SHINYA
金额:
$2.66万
依托单位:
依托单位国家:
日本
项目类别:
Grant-in-Aid for Young Scientists (B)
财政年份:
2014
资助国家:
日本
项目状态:
已结题
起止时间:
2014-04-01 至 2016-03-31
中文摘要
点击翻译按钮获取中文摘要
英文摘要
期刊论文(0)
专著(0)
科研奖励(0)
会议论文
登录
查看更多内容
Influence of electrical properties for IGZO TFT with Al2O3 gate insulators by PE-ALD method
PE-ALD 法对 Al2O3 栅绝缘体 IGZO TFT 电性能的影响
DOI:
--
发表时间:
2014
期刊:
影响因子:
--
作者:
[K. Kurishima, T. Nabatame, M. Shimizu, S. Aikawa, K. Tsukagoshi, A. Ohi, T. Chikyo, A. Ogura]
通讯作者:
A. Ogura
DOI:
10.1063/1.4905903
发表时间:
2015-01
期刊:
AIP Advances
影响因子:
1.6
作者:
[Meng-Fang Lin;Xu Gao;N. Mitoma;Takio Kizu;Wei Ou-Yang;S. Aikawa;T. Nabatame;K. Tsukagoshi]
通讯作者:
Meng-Fang Lin;Xu Gao;N. Mitoma;Takio Kizu;Wei Ou-Yang;S. Aikawa;T. Nabatame;K. Tsukagoshi
Influence of Al2O3 layer insertion on the electrical properties of Ga-In-Zn-O thin-film transistors
Al2O3层插入对Ga-In-Zn-O薄膜晶体管电性能的影响
DOI:
10.1116/1.4928763
发表时间:
2015
期刊:
J. Vac. Sci. Technol., A
影响因子:
--
作者:
[K. Kurishima, T. Nabatame, M. Shimizu, N. Mitoma, T. Kizu, S. Aikawa, K. Tsukagoshi, A. Ohi, T. Chikyow, A. Ogura]
通讯作者:
A. Ogura
Low-temperature Processable Amorphous In-W-O Thin-film Transistors
可低温加工的非晶In-W-O薄膜晶体管
DOI:
--
发表时间:
2015
期刊:
影响因子:
--
作者:
[T. Kizu, S. Aikawa, N. Mitoma, M. Shimizu, X. Gao, M-F. Lin, T. Nabatame, K. Tsukagoshi]
通讯作者:
K. Tsukagoshi
DOI:
10.1063/1.4907285
发表时间:
2015-01-26
期刊:
APPLIED PHYSICS LETTERS
影响因子:
4
作者:
[Mitoma, Nobuhiko, Aikawa, Shinya, Tsukagoshi, Kazuhito]
通讯作者:
Tsukagoshi, Kazuhito
共 18 条
Development of extremely flexible and transparent carbon nanotube devices
-
批准号:24860018
-
项目类别:Grant-in-Aid for Research Activity Start-up
-
资助金额:$1.91万
-
财政年份:2012
-
负责人:AIKAWA SHINYA
-
依托单位:
海外基金