Mirror polishing for silicon wafer based on Development of Charcoal tool
Mirror polishing for silicon wafer based on Development of Charcoal tool
批准号:
26420045
负责人:
HAGIWARA Shinsaku
金额:
$3.16万
依托单位:
依托单位国家:
日本
项目类别:
Grant-in-Aid for Scientific Research (C)
财政年份:
2014
资助国家:
日本
项目状态:
已结题
起止时间:
2014-04-01 至 2017-03-31
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竹炭砥石の開発に基づくシリコンウエハの鏡面研磨
基于竹炭砂轮开发的硅片镜面抛光
DOI:
--
发表时间:
2014
期刊:
影响因子:
--
作者:
[中村陽介, 萩原親作]
通讯作者:
萩原親作
平面研削盤用木炭砥石の開発
平面磨床用炭砂轮的研制
DOI:
--
发表时间:
2014
期刊:
影响因子:
--
作者:
[竹田史明, 萩原親作]
通讯作者:
萩原親作
天然資源を活用した炭砥石の開発(第1報:シリコンウエハの研磨)
利用自然资源开发木炭磨石(报告1:硅晶片的抛光)
DOI:
--
发表时间:
2015
期刊:
砥粒加工学会誌
影响因子:
--
作者:
[萩原親作 ,久慈照信,清水 毅,ユザイリ・アブドゥル・ラヒム,篠塚郷貴]
通讯作者:
萩原親作 ,久慈照信,清水 毅,ユザイリ・アブドゥル・ラヒム,篠塚郷貴
天然資源を活用した炭砥石の開発
利用自然资源开发木炭磨石
DOI:
--
发表时间:
2015
期刊:
砥粒加工学会誌
影响因子:
--
作者:
[T. Yakushiji, F. Nakagawa and M. Goto, 萩原親作 他]
通讯作者:
萩原親作 他
Proposal of automatic polishing method for die
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批准号:20560102
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项目类别:Grant-in-Aid for Scientific Research (C)
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资助金额:$3.0万
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财政年份:2008
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负责人:HAGIWARA Shinsaku
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依托单位:
海外基金