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Elucidation of UV irradiation effect in plasma etching process of wide gap semiconductors

宽带隙半导体等离子刻蚀过程中紫外辐射效应的阐明

基本信息

批准号：
26390066
负责人：
Niibe Masahito
金额：
$ 3.16万
依托单位：
University of Hyogo
依托单位国家：
日本
项目类别：
Grant-in-Aid for Scientific Research (C)
财政年份：
2014
资助国家：
日本
起止时间：
2014-04-01 至 2018-03-31
项目状态：
已结题

项目摘要

项目成果

期刊论文数量（0）

专著数量（0）

科研奖励数量（0）

会议论文数量（0）

专利数量（0）

Generation of electrical damage in n-GaN films following treatment in a CF4 plasma

CF4 等离子体处理后 n-GaN 薄膜中产生电损伤

DOI：
10.7567/apex.10.116201
发表时间：
2017
期刊：
Applied Physics Express
影响因子：
2.3
作者：
Nakano Yoshitaka;Kawakami Retsuo;Niibe Masahito
通讯作者：
Niibe Masahito

Fabrication and characterization of fine-grained 316L steel with 2.0 mass% TiC

制造%20and%20表征%20of%20细粒%20316L%20钢%20with%202.0%20质量%%20TiC

DOI：
10.1080/00223131.2016.1175390
发表时间：
2016
期刊：
J. Nuclear Sci. Technol.
影响因子：
0
作者：
M. Terasawa;H. Kurishita;T. Sakamoto;M. Niibe;H. Takahashi;S. Nishikawa;A. Yamamoto;M. Yamashita;T. Mitamura;T. Yamasaki;M. Kawai
通讯作者：
M. Kawai

Electrical Damage Investigation of n-GaN Films Treated by CF4 Plasma

CF4 等离子体处理的 n-GaN 薄膜的电损伤研究

DOI：
发表时间：
2016
期刊：
影响因子：
0
作者：
Yoshitaka Nakano;Masahito Niibe and Retsuo Kawakami
通讯作者：
Masahito Niibe and Retsuo Kawakami

ArとCF4プラズマで処理したAlGaN膜の表面分析

Ar 和 CF4 等离子体处理的 AlGaN 薄膜的表面分析

DOI：
发表时间：
2015
期刊：
影响因子：
0
作者：
渡邉恵理子;池田佳奈美;武田光夫;平井翔大，新部正人，川上烈生，白濱達夫，中野由崇，向井孝志
通讯作者：
平井翔大，新部正人，川上烈生，白濱達夫，中野由崇，向井孝志

Morphological and Compositional Changes in AlGaN Surfaces etched by RF Capacitively Coupled Carbon Tetrafluoride and Argon Plasmas

射频电容耦合四氟化碳和氩等离子体蚀刻 AlGaN 表面的形态和成分变化

DOI：
发表时间：
2014
期刊：
影响因子：
0
作者：
R. Kawakami;M. Niibe;Y. Nakano;T. Shirahama;S. Hirai and T. Mukai
通讯作者：
S. Hirai and T. Mukai

DOI：
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作者：
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Niibe Masahito其他文献

Photobactericidal Activity of Anatase Titanium Dioxide Nanoparticles Annealed with the Assistance of Nonequilibrium Atmospheric-Pressure Oxygen Plasma

非平衡常压氧等离子体辅助退火锐钛矿型二氧化钛纳米粒子的光杀菌活性

DOI：
发表时间：
2021
期刊：
影响因子：
0
作者：
Retsuo Kawakami;Mimoto Yuki;Shirai kihiro;Yanagiya Shin-ichiro;Niibe Masahito;Nakano Yoshitaka;Takashi Mukai
通讯作者：
Takashi Mukai

LHDプラズマにおける低次磁場揺動強度のプラズマパラメータ依存性の研究

LHD等离子体中低阶磁场脉动强度的等离子体参数依赖性研究

DOI：
发表时间：
2022
期刊：
影响因子：
0
作者：
Kawakami Retsuo;Yoshitani Yuki;Shirai Akihiro;Yanagiya Shin-ichiro;Koide Hirofumi;Mimoto Yuki;Kajikawa Kosuke;Niibe Masahito;Nakano Yoshitaka;Azuma Chisato;Mukai Takashi;山田健聖
通讯作者：
山田健聖

Removal of Surface Contamination by Atomic Hydrogen Annealing

通过原子氢退火去除表面污染

DOI：
10.2494/photopolymer.33.419
发表时间：
2020
期刊：
Journal of Photopolymer Science and Technology
影响因子：
0.8
作者：
Heya Akira;Harada Tetsuo;Niibe Masahito;Sumitomo Koji;Watanabe Takeo
通讯作者：
Watanabe Takeo

In situ X-ray diffraction study on structural changes of neutron-irradiated highly oriented pyrolytic graphite under room-temperature compression and decompression

中子辐照高取向热解石墨室温压缩和减压结构变化的原位X射线衍射研究

DOI：
10.1016/j.diamond.2022.108828
发表时间：
2022
期刊：
Diamond and Related Materials
影响因子：
4.1
作者：
Nakamura Syusaku;Nakamura Wataru;Fujii Shunjiro;Honda Shin-ichi;Niibe Masahito;Terasawa Mititaka;Higo Yuji;Niwase Keisuke
通讯作者：
Niwase Keisuke

Photocatalytic Activity Enhancement of Anatase/Rutile‐Mixed Phase TiO2 Nanoparticles Annealed with Low‐Temperature O2 Plasma

低温 O2 等离子体退火增强锐钛矿/金红石混合相 TiO2 纳米粒子的光催化活性

DOI：
10.1002/pssa.202100536
发表时间：
2021
期刊：
physica status solidi (a)
影响因子：
0
作者：
Kawakami Retsuo;Mimoto Yuki;Yanagiya Shin-ichiro;Shirai Akihiro;Niibe Masahito;Nakano Yoshitaka;Mukai Takashi
通讯作者：
Mukai Takashi