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Studies of Radical Intermediates in Hot-Wire Chemical Vapor Deposition of Semiconductor Thin Films

Studies of Radical Intermediates in Hot-Wire Chemical Vapor Deposition of Semiconductor Thin Films
半导体薄膜热丝化学气相沉积自由基中间体的研究
批准号：
299455-2004
负责人：
Shi, Yujun
金额：
$2.91万
依托单位：
University of Calgary
依托单位国家：
加拿大
项目类别：
University Faculty Award
财政年份：
2005
资助国家：
加拿大
项目状态：
已结题
起止时间：
2005-01-01 至 2006-12-31
来源：
https://www.nserc-crsng.gc.ca/ase-oro/Details-Detailles_eng.asp?id=309810
关键词：
StudiesRadicalIntermediatesHotWire

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Chemical Vapor Deposition of Si-containing Thin Films and Si Nanostructures: From a molecular-level understanding to applications
  • 批准号：
    RGPIN-2019-04845
  • 项目类别：
    Discovery Grants Program - Individual
  • 资助金额：
    $2.62万
  • 财政年份：
    2022
  • 负责人：
    Shi, Yujun
  • 依托单位：
    University of Calgary
Chemical Vapor Deposition of Si-containing Thin Films and Si Nanostructures: From a molecular-level understanding to applications
  • 批准号：
    RGPIN-2019-04845
  • 项目类别：
    Discovery Grants Program - Individual
  • 资助金额：
    $2.62万
  • 财政年份：
    2021
  • 负责人：
    Shi, Yujun
  • 依托单位：
    University of Calgary
Chemical Vapor Deposition of Si-containing Thin Films and Si Nanostructures: From a molecular-level understanding to applications
  • 批准号：
    RGPIN-2019-04845
  • 项目类别：
    Discovery Grants Program - Individual
  • 资助金额：
    $2.62万
  • 财政年份：
    2020
  • 负责人：
    Shi, Yujun
  • 依托单位：
    University of Calgary
Chemical Vapor Deposition of Si-containing Thin Films and Si Nanostructures: From a molecular-level understanding to applications
  • 批准号：
    RGPIN-2019-04845
  • 项目类别：
    Discovery Grants Program - Individual
  • 资助金额：
    $2.62万
  • 财政年份：
    2019
  • 负责人：
    Shi, Yujun
  • 依托单位：
    University of Calgary
国内基金
海外基金
前缘激波诱导Radical-Farming燃烧机理的数值研究
  • 批准号：
    10702064
  • 项目类别：
    青年科学基金项目
  • 资助金额：
    21.0万元
  • 批准年份：
    2007
  • 负责人：
    邹建锋
  • 依托单位：
    浙江大学