Studies of Radical Intermediates in Hot-Wire Chemical Vapor Deposition of Semiconductor Thin Films

半导体薄膜热丝化学气相沉积自由基中间体的研究

基本信息

  • 批准号：
    299455-2004
  • 负责人：
    Shi, Yujun
  • 金额：
    $ 2.91万
  • 依托单位：
    University of Calgary
  • 依托单位国家：
    加拿大
  • 项目类别：
    University Faculty Award
  • 财政年份：
    2008
  • 资助国家：
    加拿大
  • 起止时间：
    2008-01-01 至 2009-12-31
  • 项目状态：
    已结题

项目摘要

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项目成果

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  • 发表时间：
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  • 期刊：
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  • 影响因子：
    1.9
  • 作者：
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  • 通讯作者：
    Ling, Yong
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  • 资助金额：
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  • 批准号：
    326989-2009
  • 财政年份：
    2011
  • 资助金额：
    $ 2.91万
  • 项目类别：
    Discovery Grants Program - Individual
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  • 批准号：
    8220816
  • 财政年份：
    2010
  • 资助金额：
    $ 2.91万
  • 项目类别：
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知道了