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Studies of radical intermediates in hot wire chemical vapor depoisiton of semiconductor thin films

Studies of radical intermediates in hot wire chemical vapor depoisiton of semiconductor thin films
半导体薄膜热丝化学气相沉积自由基中间体的研究
批准号：
283270-2004
负责人：
Shi, Yujun
金额：
$3.06万
依托单位：
University of Calgary
依托单位国家：
加拿大
项目类别：
Discovery Grants Program - Individual
财政年份：
2006
资助国家：
加拿大
项目状态：
已结题
起止时间：
2006-01-01 至 2007-12-31
来源：
https://www.nserc-crsng.gc.ca/ase-oro/Details-Detailles_eng.asp?id=336182
关键词：
Studiesradicalintermediateshotwire

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Chemical Vapor Deposition of Si-containing Thin Films and Si Nanostructures: From a molecular-level understanding to applications
  • 批准号：
    RGPIN-2019-04845
  • 项目类别：
    Discovery Grants Program - Individual
  • 资助金额：
    $2.62万
  • 财政年份：
    2022
  • 负责人：
    Shi, Yujun
  • 依托单位：
    University of Calgary
Chemical Vapor Deposition of Si-containing Thin Films and Si Nanostructures: From a molecular-level understanding to applications
  • 批准号：
    RGPIN-2019-04845
  • 项目类别：
    Discovery Grants Program - Individual
  • 资助金额：
    $2.62万
  • 财政年份：
    2021
  • 负责人：
    Shi, Yujun
  • 依托单位：
    University of Calgary
Chemical Vapor Deposition of Si-containing Thin Films and Si Nanostructures: From a molecular-level understanding to applications
  • 批准号：
    RGPIN-2019-04845
  • 项目类别：
    Discovery Grants Program - Individual
  • 资助金额：
    $2.62万
  • 财政年份：
    2020
  • 负责人：
    Shi, Yujun
  • 依托单位：
    University of Calgary
Chemical Vapor Deposition of Si-containing Thin Films and Si Nanostructures: From a molecular-level understanding to applications
  • 批准号：
    RGPIN-2019-04845
  • 项目类别：
    Discovery Grants Program - Individual
  • 资助金额：
    $2.62万
  • 财政年份：
    2019
  • 负责人：
    Shi, Yujun
  • 依托单位：
    University of Calgary
国内基金
海外基金
前缘激波诱导Radical-Farming燃烧机理的数值研究
  • 批准号：
    10702064
  • 项目类别：
    青年科学基金项目
  • 资助金额：
    21.0万元
  • 批准年份：
    2007
  • 负责人：
    邹建锋
  • 依托单位：
    浙江大学
一氧化氮自由基与小麦抗条锈反应相关的G蛋白信号转导