Étude des interactions plasmas-parois et des dérives de procédés dans la gravure profonde du Si dans des plamas SF6/C4F8

等离子相互作用研究以及等离子 SF6/C4F8 深凹凹印过程的驱动

基本信息

  • 批准号：
    428689-2011
  • 负责人：
    Fradet, Mathieu
  • 金额：
    $ 0.34万
  • 依托单位：
    Université de Montréal
  • 依托单位国家：
    加拿大
  • 项目类别：
    Industrial Scholarship in Partnership with the FQRNT - Master's
  • 财政年份：
    2011
  • 资助国家：
    加拿大
  • 起止时间：
    2011-01-01 至 2012-12-31
  • 项目状态：
    已结题

项目摘要

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项目成果

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  • 期刊：
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  • 影响因子：
    2.9
  • 作者：
    Hui, Aileen O.;Fradet, Mathieu;Sander, Stanley P.
  • 通讯作者：
    Sander, Stanley P.

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