Passivation de dispositifs photoniques haute performance

高级性能光子装置钝化

• 批准号: 355620-2008
• 负责人: Jaouad, Abdelatif
• 金额: $ 1.42万
• 依托单位: Université de Sherbrooke
• 依托单位国家: 加拿大
• 项目类别: Discovery Grants Program - Individual
• 财政年份: 2012
• 资助国家: 加拿大
• 起止时间: 2012-01-01 至 2013-12-31
• 项目状态: 已结题
• 来源: https://www.nserc-crsng.gc.ca/ase-oro/Details-Detailles_eng.asp?id=503490
• 关键词: Passivation; de; dispositifs; photoniques; haute

Pour atteindre plus de performance, la photonique basée sur les semiconducteurs III-V s'oriente vers des technologies de plus en plus miniaturisées pour lesquels le ratio surface/volume devient important. La grande densité des défauts naturellement présents sur la surface de ces matériaux, ajoutée aux défauts introduits par certaines étapes de la fabrication (la gravure ou le clivage, par exemple) devient excessive au point de compromettre la fiabilité et les performances des dispositifs. Ce programme de recherche se propose de contribuer à minimsier la densité des états électroniques associée à ces défauts. Une technologie de passivation bien adaptée sera développée et permettra d'aider à l'émergence à l'échelle industrielle de certains dispositifs et de circuits des prochaines générations de la photonique.

为了提高性能，基于III-V的光子学技术的方向是提高表面/体积比，这是非常重要的。材料表面存在缺陷的致密性，由于缺陷引入了制造（凹版或雕刻）过程中的某些缺陷，导致Au点对材料的稳定性和性能产生过度影响。该研究方案建议尽量减少与这些缺陷有关的电子国家的密度。Une technologie de passivation bien adaptée sera dépée et permettra d'aider à l'émergence à l'échelle industrielle de certains dispositifs et de circuits des prochaines générations de la photonique.