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New generation pulsed magnetron sputtering for the synthesis of advanced materials
用于合成先进材料的新一代脉冲磁控溅射
基本信息
- 批准号：DP110102021
- 负责人：
- 金额：$ 33.78万
- 依托单位：
- 依托单位国家：澳大利亚
- 项目类别：Discovery Projects
- 财政年份：2011
- 资助国家：澳大利亚
- 起止时间：2011-10-06 至 2015-02-28
- 项目状态：已结题
- 来源：
- 关键词：
项目摘要
Magnetron sputtering underpins the manufacture of many products ranging from semiconductor microelectronics to energy efficient windows. This project will create a new generation sputtering process fully compatible with current technology but capable of synthesising new phases and new film microstructures with greatly enhanced performance.
磁控溅射支撑着从半导体微电子到节能窗户等许多产品的制造。该项目将创建新一代溅射工艺，与当前技术完全兼容，但能够合成新相和新的薄膜微结构，并大大提高性能。
项目成果
期刊论文数量（0）
专著数量（0）
科研奖励数量（0）
会议论文数量（0）
专利数量（0）
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$ 33.78万 - 项目类别：
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