Plastic Etch Detection of Dark Matter

暗物质的塑料蚀刻检测

基本信息

  • 批准号:
    551135-2020
  • 负责人:
  • 金额:
    $ 0.33万
  • 依托单位:
  • 依托单位国家:
    加拿大
  • 项目类别:
    University Undergraduate Student Research Awards
  • 财政年份:
    2020
  • 资助国家:
    加拿大
  • 起止时间:
    2020-01-01 至 2021-12-31
  • 项目状态:
    已结题

项目摘要

No summary - Aucun sommaire
没有总结 - Aucun sommaire

项目成果

期刊论文数量(0)
专著数量(0)
科研奖励数量(0)
会议论文数量(0)
专利数量(0)

数据更新时间:{{ journalArticles.updateTime }}

{{ item.title }}
{{ item.translation_title }}
  • DOI:
    {{ item.doi }}
  • 发表时间:
    {{ item.publish_year }}
  • 期刊:
  • 影响因子:
    {{ item.factor }}
  • 作者:
    {{ item.authors }}
  • 通讯作者:
    {{ item.author }}

数据更新时间:{{ journalArticles.updateTime }}

{{ item.title }}
  • 作者:
    {{ item.author }}

数据更新时间:{{ monograph.updateTime }}

{{ item.title }}
  • 作者:
    {{ item.author }}

数据更新时间:{{ sciAawards.updateTime }}

{{ item.title }}
  • 作者:
    {{ item.author }}

数据更新时间:{{ conferencePapers.updateTime }}

{{ item.title }}
  • 作者:
    {{ item.author }}

数据更新时间:{{ patent.updateTime }}

Courtman, BrianAnthony其他文献

Courtman, BrianAnthony的其他文献

{{ item.title }}
{{ item.translation_title }}
  • DOI:
    {{ item.doi }}
  • 发表时间:
    {{ item.publish_year }}
  • 期刊:
  • 影响因子:
    {{ item.factor }}
  • 作者:
    {{ item.authors }}
  • 通讯作者:
    {{ item.author }}

相似海外基金

'Deep-etch' electron microscopic analysis of intracellular introduction mechanism of new therapeutic compounds for muscular dystrophy
“深蚀刻”电子显微镜分析肌营养不良症新治疗化合物的细胞内引入机制
  • 批准号:
    21K11196
  • 财政年份:
    2021
  • 资助金额:
    $ 0.33万
  • 项目类别:
    Grant-in-Aid for Scientific Research (C)
"A Quantum Etch-a-sketch": Reconfigurable quantum circuitry using chiral light
“量子蚀刻草图”:使用手性光的可重构量子电路
  • 批准号:
    2608166
  • 财政年份:
    2021
  • 资助金额:
    $ 0.33万
  • 项目类别:
    Studentship
Development of silicon carbide plasma etch processes for next generation power electronics
开发下一代电力电子产品的碳化硅等离子体蚀刻工艺
  • 批准号:
    2441670
  • 财政年份:
    2020
  • 资助金额:
    $ 0.33万
  • 项目类别:
    Studentship
In-situ etch depth control with precision around 1 nm via reflectance anisotropy spectroscopy during reactive ion etching of monocrystalline III/V semiconductors
在单晶 III/V 半导体的反应离子蚀刻过程中,通过反射各向异性光谱进行原位蚀刻深度控制,精度约为 1 nm
  • 批准号:
    333645568
  • 财政年份:
    2017
  • 资助金额:
    $ 0.33万
  • 项目类别:
    Research Grants
JEOL Freeze Fracture/Freeze Etch Device
JEOL 冷冻断裂/冷冻蚀刻装置
  • 批准号:
    8640669
  • 财政年份:
    2014
  • 资助金额:
    $ 0.33万
  • 项目类别:
PLASMA ETCH
等离子蚀刻
  • 批准号:
    751755
  • 财政年份:
    2014
  • 资助金额:
    $ 0.33万
  • 项目类别:
    Vouchers
GOALI: In-Situ Plasma Cleaning of Optics: Building a Fundamental Understanding of the Etch Process in a Complex Plasma Environment
目标:光学器件的原位等离子体清洗:建立对复杂等离子体环境中蚀刻过程的基本了解
  • 批准号:
    1436081
  • 财政年份:
    2014
  • 资助金额:
    $ 0.33万
  • 项目类别:
    Standard Grant
Development of SNAP-tag technology for deep-etch electron microscopy
深蚀刻电子显微镜 SNAP 标签技术的开发
  • 批准号:
    26840049
  • 财政年份:
    2014
  • 资助金额:
    $ 0.33万
  • 项目类别:
    Grant-in-Aid for Young Scientists (B)
Development of adhesive system of one-step self-etch adhesive with a high bond durability
开发具有高粘合耐久性的一步式自蚀刻粘合剂的粘合系统
  • 批准号:
    25462969
  • 财政年份:
    2013
  • 资助金额:
    $ 0.33万
  • 项目类别:
    Grant-in-Aid for Scientific Research (C)
Development of correlation microscopy between deep-etch EM and photoactivation localization microscopy. Application to study of membrane dynamics.
深蚀刻电镜和光活化定位显微镜之间相关显微镜的发展。
  • 批准号:
    25840071
  • 财政年份:
    2013
  • 资助金额:
    $ 0.33万
  • 项目类别:
    Grant-in-Aid for Young Scientists (B)
{{ showInfoDetail.title }}

作者:{{ showInfoDetail.author }}

知道了