采用溶胶－凝胶镀膜技术，利用缓冲层并协同薄膜中特定离子掺杂控制薄膜缺陷密度的新技术及逐层控制逐层诱导取向析晶的新工艺，制备出低介电损耗和高介电常数可调性的高性能PST薄膜。通过结构、成份和介电等性能的测定，揭示钙钛矿相的结构、大小和含量等与薄膜材料性能的关系。了解这种薄膜材料的制备条件，搞清多层诱导晶体取向生长的机理，掌握缓冲层与特定掺杂离子间的协同作用机制以及对钙钛矿相结晶性能和薄膜缺陷密度的影响规律。探讨这种薄膜材料在微波可调元器件方面的应用。