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原位复合制备改性α-Si:H/c-Si高性能光电薄膜的研究
批准号：
69776004
项目类别：
面上项目
资助金额：
12.5 万元
负责人：
杜丕一
依托单位：
浙江大学
学科分类：
F0401.半导体材料
结题年份：
2000
批准年份：
1997
项目状态：
已结题
项目参与者：
巍文霖、寿瑾珲、朱涛、吴建荣、葛金余
关键词：
非晶硅及晶体硅高性能光电薄膜原位复合
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基于渗流效应的高磁电耦合铁电/铁磁多铁复相薄膜形成及其机理研究
  • 批准号：
    51772269
  • 项目类别：
    面上项目
  • 资助金额：
    60.0万元
  • 批准年份：
    2017
  • 负责人：
    杜丕一
  • 依托单位：
    浙江大学
渗流型铁电铁磁复相高性能吸波材料的制备与性能研究
  • 批准号：
    51272230
  • 项目类别：
    面上项目
  • 资助金额：
    80.0万元
  • 批准年份：
    2012
  • 负责人：
    杜丕一
  • 依托单位：
    浙江大学
溶胶凝胶法制备两相复合渗流型高性能电介质薄膜及其形成机理研究
  • 批准号：
    51172202
  • 项目类别：
    面上项目
  • 资助金额：
    60.0万元
  • 批准年份：
    2011
  • 负责人：
    杜丕一
  • 依托单位：
    浙江大学
溶胶-凝胶法制备渗流型超高性能铁电铁磁复相陶瓷材料研究
  • 批准号：
    50872120
  • 项目类别：
    面上项目
  • 资助金额：
    35.0万元
  • 批准年份：
    2008
  • 负责人：
    杜丕一
  • 依托单位：
    浙江大学
常压气相沉积法自诱导形成硅化钛纳米线的研究
  • 批准号：
    50672084
  • 项目类别：
    面上项目
  • 资助金额：
    30.0万元
  • 批准年份：
    2006
  • 负责人：
    杜丕一
  • 依托单位：
    浙江大学
溶胶-凝胶法高性能PST薄膜材料制备与性能研究
  • 批准号：
    50372057
  • 项目类别：
    面上项目
  • 资助金额：
    28.0万元
  • 批准年份：
    2003
  • 负责人：
    杜丕一
  • 依托单位：
    浙江大学
钛矿相堆垛微结构铁电多层薄膜的制备及性能研究
  • 批准号：
    50072023
  • 项目类别：
    面上项目
  • 资助金额：
    22.0万元
  • 批准年份：
    2000
  • 负责人：
    杜丕一
  • 依托单位：
    浙江大学
国内基金
海外基金