课题基金基金详情
溶胶-凝胶法制备渗流型超高性能铁电铁磁复相陶瓷材料研究
结题报告
批准号:
50872120
项目类别:
面上项目
资助金额:
35.0 万元
负责人:
杜丕一
依托单位:
学科分类:
E0206.功能陶瓷
结题年份:
2011
批准年份:
2008
项目状态:
已结题
项目参与者:
马宁、董艳玲、郑赞、陈祖煌、胡安红、祝露
国基评审专家1V1指导 中标率高出同行96.8%
结合最新热点,提供专业选题建议
深度指导申报书撰写,确保创新可行
指导项目中标800+,快速提高中标率
客服二维码
微信扫码咨询
中文摘要
多铁性材料由于其特殊的性能可用于多种功能器件。配合目前电子元器件及电子电路制备工艺,复相多铁性全陶瓷体系的研发为多铁性材料应用的进一步拓展开辟了新途径。受两相复合定律影响,简单复合将使两相性能明显下降。本项目以B(S)T/N(Z)FO为研究对象,引入渗流概念,并通过调节铁磁相本身的电导性将其用作为导电相材料,特别是利用溶胶凝胶及原位形成技术,通过形成在极小尺度上均匀分布且铁磁相被极薄一层铁电相很好包裹的两相,成功解决了产生渗流效应且具高渗流阈值的难题,制备了全陶瓷渗流型超高介高磁复合材料;更进一步,建立了通过抑制空间电荷传输降低损耗的思想,通过形成或引入高阻界面层,成功解决了在类似陶瓷体系中通常存在高损耗的难题,在高介高磁基础上获得了低损耗全陶瓷复相材料,对进一步加快在新型电子元器件方面的应用将极具科学意义和使用价值,有利于促进相关科学领域的发展。特别在电场可调磁电器件等领域应用前景广阔。
英文摘要
期刊论文列表
专著列表
科研奖励列表
会议论文列表
专利列表
DOI:--
发表时间:--
期刊:硅酸盐学报
影响因子:--
作者:郑辉;马宁;杜丕一;董艳玲
通讯作者:董艳玲
Effect of Zn-Doping on the Tunable Behavior of (Pb0.6Sr0.4)TiO3 Thin Films
Zn 掺杂对 (Pb0.6Sr0.4)TiO3 薄膜可调行为的影响
DOI:10.1080/00150190902967147
发表时间:2009-09
期刊:Ferroelectrics
影响因子:0.8
作者:Li, X. T.;Du, P. Y.;Ma, N.;Weng, W. J.;Han, G. R.;Zheng, Z.;Zhao, H. J.
通讯作者:Zhao, H. J.
DOI:10.1016/j.jcrysgro.2010.11.096
发表时间:2011
期刊:Journal of Crystal Growth
影响因子:1.8
作者:X. Li;Biao Wang;W. Weng;G. Han;Chen-lu Song;N. Ma;P. Du
通讯作者:X. Li;Biao Wang;W. Weng;G. Han;Chen-lu Song;N. Ma;P. Du
DOI:10.1016/j.jssc.2010.09.007
发表时间:2010-11
期刊:Journal of Solid State Chemistry
影响因子:3.3
作者:Song, C. L.;Du, P. Y.;Tu, Y.;Weng, W. J.;Han, G. R.;Zhao, Y. L.;Li, X. T.;Dai, J. L.
通讯作者:Dai, J. L.
Super High Threshold Percolative Ferroelectric/Ferrimagnetic Composite Ceramics with Outstanding Permittivity and Initial Permeability
具有出色介电常数和初始磁导率的超高阈值渗流铁电/亚铁磁复合陶瓷
DOI:10.1002/anie.200904269
发表时间:2009-01-01
期刊:ANGEWANDTE CHEMIE-INTERNATIONAL EDITION
影响因子:16.6
作者:Zheng, Hui;Dong, Yanling;Du, Piyi
通讯作者:Du, Piyi
基于渗流效应的高磁电耦合铁电/铁磁多铁复相薄膜形成及其机理研究
  • 批准号:
    51772269
  • 项目类别:
    面上项目
  • 资助金额:
    60.0万元
  • 批准年份:
    2017
  • 负责人:
    杜丕一
  • 依托单位:
渗流型铁电铁磁复相高性能吸波材料的制备与性能研究
  • 批准号:
    51272230
  • 项目类别:
    面上项目
  • 资助金额:
    80.0万元
  • 批准年份:
    2012
  • 负责人:
    杜丕一
  • 依托单位:
溶胶凝胶法制备两相复合渗流型高性能电介质薄膜及其形成机理研究
  • 批准号:
    51172202
  • 项目类别:
    面上项目
  • 资助金额:
    60.0万元
  • 批准年份:
    2011
  • 负责人:
    杜丕一
  • 依托单位:
常压气相沉积法自诱导形成硅化钛纳米线的研究
  • 批准号:
    50672084
  • 项目类别:
    面上项目
  • 资助金额:
    30.0万元
  • 批准年份:
    2006
  • 负责人:
    杜丕一
  • 依托单位:
溶胶-凝胶法高性能PST薄膜材料制备与性能研究
  • 批准号:
    50372057
  • 项目类别:
    面上项目
  • 资助金额:
    28.0万元
  • 批准年份:
    2003
  • 负责人:
    杜丕一
  • 依托单位:
钛矿相堆垛微结构铁电多层薄膜的制备及性能研究
  • 批准号:
    50072023
  • 项目类别:
    面上项目
  • 资助金额:
    22.0万元
  • 批准年份:
    2000
  • 负责人:
    杜丕一
  • 依托单位:
原位复合制备改性α-Si:H/c-Si高性能光电薄膜的研究
  • 批准号:
    69776004
  • 项目类别:
    面上项目
  • 资助金额:
    12.5万元
  • 批准年份:
    1997
  • 负责人:
    杜丕一
  • 依托单位:
国内基金
海外基金