超光滑表面加工是现代微电子、光学和航空宇航等领域中的关键共性问题，技术难点在于：加工后的材料的表面粗糙度（Ra）须小于1nm，同时要求其表层及亚表层无损伤。本申请拟利用约束刻蚀剂层（CELT）的基本原理，发展可满足上述要求的超光滑表面加工新方法，即：在超光滑的线形工具表面，由溶液中的约束剂将电化学产生的化学刻蚀剂液层压缩至纳米尺度，当刻蚀剂液层与被加工的材料表面接触后即发生化学反应，通过相对移动线形工具和被加工表面，实现大尺度、无机械接触的化学刻蚀/抛光加工。研究内容包括：（1）采用扫描电化学显微镜（SECM）方法，探寻适合于不同材质的高效化学刻蚀/抛光的CELT体系；（2）设计线形工具（电极）和超精密旋转加工装置，建立超光滑表面加工原型系统；（3）通过理论模拟与实验相结合，探明在纳米尺度超薄液层内的对流、扩散传质特性以及物料平衡。旨在建立一种简单易行的具有普适性的超光滑表面加工新方法。