GaN-基稀磁半导体与偏振光发光二极管的研究
批准号:
60776041
项目类别:
面上项目
资助金额:
40.0 万元
负责人:
张国义
依托单位:
学科分类:
半导体光电子器件与集成
结题年份:
2010
批准年份:
2007
项目状态:
已结题
项目参与者:
裵谐第、杨学林、吴洁君、陈志涛、闫和平、薛立新、赵璐冰、贾传宇、桑立雯
中文摘要
具有高于室温的居里温度的GaN基稀磁半导体材料在自旋电子学和光电子学领域里具有广泛的应用前景和深刻的物理意义,在全世界范围内引发了新一轮的稀磁半导体研究热潮。我们在国内首次采用MOCVD技术,获得的GaMnN材料居里温度超过380K。本项目在已有相关基础上,继续以GaMnN稀磁半导体材料为切入点,针对GaN基稀磁半导体领域中的核心问题展开研究:深入开展GaMnN材料的MOCVD生长研究,以及GaN基的其它稀磁半导体材料和结构,并在此基础上结合第一性原理研究磁性元素在GaN中的溶解度,材料的结构和性能,包括材料的微结构和缺陷结构及其对磁学、光学和电学等性能的影响。在以上研究的基础上,开展GaN基稀磁半导体材料在自旋注入偏振光LED器件中的应用研究,其中包括器件设计,自旋输运,自旋电子复合发光的偏振性等基本物理问题研究。为偏振光LED在液晶背光源中的的应用奠定理论和实验基础。
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DOI:
10.1016/j.jcrysgro.2008.01.056
发表时间:
2008-05
期刊:
Journal of Crystal Growth
影响因子:
1.8
作者:
[Zhijian Chen;X. L. Yang;Z. Yang;H. Zhao;Chuan‐She Wang;G. Zhang]
通讯作者:
Zhijian Chen;X. L. Yang;Z. Yang;H. Zhao;Chuan‐She Wang;G. Zhang
Effects of nitrogen vacancies induced by Mn doping in (Ga,Mn)N films grown by MOCVD
MOCVD生长(Ga,Mn)N薄膜中Mn掺杂引起的氮空位的影响
DOI:
10.1088/0022-3727/41/12/125002
发表时间:
2008-05
期刊:
Journal of Physics D-Applied Physics
影响因子:
3.4
作者:
[Yan W S, Wang C D, Chen D L, Yang X L, Huang S, Chen Z T, Fang H, Zhang G Y]
通讯作者:
Zhang G Y
DOI:
10.1088/0022-3727/41/24/245004
发表时间:
2008-12
期刊:
Journal of Physics D: Applied Physics
影响因子:
--
作者:
[X. L. Yang;Z. Chen;L. B. Zhao;W. Zhu;C. D. Wang;X. Pei;G. Zhang]
通讯作者:
X. L. Yang;Z. Chen;L. B. Zhao;W. Zhu;C. D. Wang;X. Pei;G. Zhang
Structural, optical, and magnetic properties of Cu-implanted GaN films
Cu 注入 GaN 薄膜的结构、光学和磁特性
DOI:
10.1063/1.3079519
发表时间:
2009-03
期刊:
Journal of Applied Physics
影响因子:
3.2
作者:
[Wang, C. D., Yang, Z. J., Chen, Z. T., Pei, X. D., Yao, S. D., Zhang, G. Y., Ding, Z. B., Wang, K., Yang, X. L., Zhang, Y.]
通讯作者:
Zhang, Y.
DOI:
10.1063/1.3120267
发表时间:
2009-04
期刊:
Applied Physics Letters
影响因子:
4
作者:
[X. L. Yang;Weiming Zhu;Chengduo Wang;H. Fang;Tianzhi Yu;Z. Yang;G. Zhang;X. Qin;R. Yu;Benson Wang]
通讯作者:
X. L. Yang;Weiming Zhu;Chengduo Wang;H. Fang;Tianzhi Yu;Z. Yang;G. Zhang;X. Qin;R. Yu;Benson Wang
共 7 条
GaN单晶衬底及其同质外延的研究
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批准号:60976009
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项目类别:面上项目
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资助金额:50.0万元
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批准年份:2009
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负责人:张国义
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依托单位:
GaN基光子晶体及其在提高发光器件出光效率中的应用
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批准号:60577030
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项目类别:面上项目
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资助金额:24.0万元
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批准年份:2005
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负责人:张国义
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依托单位:
GaN-based稀磁半导体材料与自旋电子共振隧穿器件的研究
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批准号:60376005
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项目类别:面上项目
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资助金额:20.0万元
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批准年份:2003
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负责人:张国义
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依托单位:
GaN基紫外光传感器及其应用的研究
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批准号:69876002
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项目类别:面上项目
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资助金额:14.0万元
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批准年份:1998
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负责人:张国义
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依托单位:
GaN基兰-绿光材料制备及应用中的科学问题
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批准号:69789601
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项目类别:专项基金项目
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资助金额:80.0万元
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批准年份:1997
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负责人:张国义
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依托单位:
MOCVD生长GaN和兰光LED
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批准号:69476025
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项目类别:面上项目
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资助金额:10.0万元
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批准年份:1994
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负责人:张国义
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依托单位:
国内基金
海外基金