异质栅多阶梯场极板HMLDMOS及高压LDMOS的SPICE模型
结题报告
批准号:
60576066
项目类别:
面上项目
资助金额:
21.0 万元
负责人:
陈军宁
依托单位:
学科分类:
F0405.半导体器件物理
结题年份:
2008
批准年份:
2005
项目状态:
已结题
项目参与者:
柯导明、吴秀龙、洪琪、高珊、刘琦、丁峰
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中文摘要
异质栅多阶梯场极板HMLDMOS采用栅工程的概念,通过对栅和场极板的设计,得到小的导通电阻和耐高压的LDMOS。所设计的栅有S-gate 和D-gate 两块并列组成,S-gate用高功函数材料作为电极,D-gate用低功函数材料作为电极。由于靠源端的阈值电压稍高于漏端的阈值电压,沟道中产生阶梯分布电势,电场沿沟道分布比较均匀,载流子可以得到更大的漂移速度,其结果是提高了驱动电流、跨导和截止频率。多阶梯场极板降低了漏漂移区末端的最大场强,因而可以缩短场极板长度,提高表面击穿电压,减小漂移区电阻。我们将利用在数值模拟中得到的高压LDMOS的伏安特性经验公式,建立整个导通区的LDMOS统一电流公式,进而建立用于IC CAD模拟的HMLDMOS和高压LDMOS的宏模型。由于模型采用统一的电流公式,因而在电路模拟时将更准确,速度更快。
英文摘要
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DOI:--
发表时间:--
期刊:《微电子学》,第36卷,第6期,P810-813,2006年12月
影响因子:--
作者:
通讯作者:
DOI:--
发表时间:--
期刊:代月花、陈军宁、柯导明,摄动法研究纳米MOSFETs亚阈值特性,半导体学报, 28(2),2007年2月,P237-240(EI收录)
影响因子:--
作者:
通讯作者:
DOI:--
发表时间:--
期刊:半导体技术, 31(10),2006年10月,P770-773
影响因子:--
作者:
通讯作者:
DOI:--
发表时间:--
期刊:电子学报, 35(5),2007年5月,P844-848(EI收录)
影响因子:--
作者:
通讯作者:
DOI:--
发表时间:--
期刊:
影响因子:--
作者:
通讯作者:
复合多晶硅栅射频高增益MOSFET的研究
  • 批准号:
    60876062
  • 项目类别:
    面上项目
  • 资助金额:
    31.0万元
  • 批准年份:
    2008
  • 负责人:
    陈军宁
  • 依托单位:
复合多晶硅栅射频MOSFET的研究
  • 批准号:
    60644007
  • 项目类别:
    专项基金项目
  • 资助金额:
    8.0万元
  • 批准年份:
    2006
  • 负责人:
    陈军宁
  • 依托单位:
亚0.1微米统一的体硅和SOI MOSFET SPICE模型的研究
  • 批准号:
    60276042
  • 项目类别:
    面上项目
  • 资助金额:
    22.0万元
  • 批准年份:
    2002
  • 负责人:
    陈军宁
  • 依托单位:
国内基金
海外基金