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铁电薄膜红外光限制效应及红外应用研究

批准号:
60677022
项目类别:
面上项目
资助金额:
29.0 万元
负责人:
杨平雄
依托单位:
学科分类:
红外与太赫兹物理及技术
结题年份:
2009
批准年份:
2006
项目状态:
已结题
项目参与者:
忻佩胜、俞建国、童梓洋、秦苏梅、郭鸣、石美荣、刘爱云

项目摘要

结项摘要

项目成果

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中文摘要
本项目围绕铁电薄膜红外光限制效应研究,深入开展:(1)揭示铁电薄膜红外光限制特性的机理,采用低温等特殊的实验手段研究铁电薄膜中的光子行为,从理论上弄清铁电薄膜红外光限制效应。(2)建立铁电薄膜红外光限制特性、抗激光损伤阈值等与材料微结构及生长工艺等的关系。(3) 利用铁电薄膜光限制特性提出铁电光学器件新应用、新模型,例如空天传感器铁电红外保护层、铁电红外激光防护镜等。这一效应的研究对开创铁电薄膜在红外技术中的新应用具有重要意义。
英文摘要
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Effects of deposition temperature and post-annealing on structure and electrical properties in (La0.5Sr0.5)CoO3 films grown on silicon substrate
沉积温度和后退火对硅衬底上生长的(La0.5Sr0.5)CoO3薄膜的结构和电性能的影响
DOI: --
发表时间: --
期刊: Applied Physics A-Materials Science & Processing
影响因子: 2.7
作者: [Hu, Z. G., Chu, J. H., Yang, P. X., Yue, F. Y., Zhou, W. Z., Li, Y. W.]
通讯作者: Li, Y. W.
DOI: 10.1063/1.2822421
发表时间: 2007-12-03
期刊: APPLIED PHYSICS LETTERS
影响因子: 4
作者: [Li, Y. W., Hu, Z. G., Chu, J. H.]
通讯作者: Chu, J. H.
Growth and properties of SrBi2TaNbO9 ferroelectric thin films using pulsed laser deposition
脉冲激光沉积 SrBi2TaNbO9 铁电薄膜的生长和性能
DOI: 10.1016/j.mseb.2006.10.017
发表时间: 2007-02
期刊: Materials Science and Engineering B-Solid State Materials for Advanced Technology
影响因子: --
作者: [Yang, Pingxiong, Shi, Meirong, Deng, Hongmei, Qin, Sumei, Tong, Ziyang]
通讯作者: Tong, Ziyang
DOI: 10.7498/aps.58.5790
发表时间: 2009-08
期刊:
影响因子: --
作者: [Sun Lin;Chu Junhao;Yang Pingxiong;Feng Chu-De]
通讯作者: Sun Lin;Chu Junhao;Yang Pingxiong;Feng Chu-De
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    窄禁带氧化物钙钛矿太阳电池研究
    • 批准号:
      61474045
    • 项目类别:
      面上项目
    • 资助金额:
      85.0万元
    • 批准年份:
      2014
    • 负责人:
      杨平雄
    • 依托单位:
    原子层尺度上可控的铁电薄膜L-MBE制备及其光伏效应研究
    • 批准号:
      61076060
    • 项目类别:
      面上项目
    • 资助金额:
      38.0万元
    • 批准年份:
      2010
    • 负责人:
      杨平雄
    • 依托单位:
    国内基金
    海外基金