D-Band Micromachined Silicon Rectangular Waveguide Filter
D-Band Micromachined Silicon Rectangular Waveguide Filter
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D 波段微机械硅矩形波导滤波器
DOI：
10.1109/lmwc.2012.2193121
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发表时间：
2012-04
影响因子：
3
通讯作者：
Shek, C. H.
中科院分区：
文献类型：
--
作者：
Zhao, X. H.;Bao, J. F.;Shan, G. C.;Du, Y. J.;Zheng, Y. B.;Wen, Y.;Shek, C. H.
140 GHz硅微机械带矩形波导滤波器首先是通过用于亚毫米表波应用的深反应离子蚀刻（DRIE）工艺制造的。滤波电路结构曾经使用ICP反应离子E形成
The 140 GHz silicon micromachined bandpass rectangular waveguide filters are firstly fabricated by the deep reactive ion etching (DRIE) processes for submillimeter wave applications. The filter circuit structure is once-formed using the ICP reactive ion etcher to etch through the full thickness of the silicon wafer, and then bonded together with the two metallized glass covers to form the waveguide cavity. The measured lowest insertion losses are lower than 0.5 dB. The unloaded quality factor can reach 160. It demonstrates a successful and practical way to fabricate these types of waveguide filters.
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DOI：
10.1109/mwsym.2004.1339198
发表时间：
2004-06
期刊：
2004 IEEE MTT-S International Microwave Symposium Digest (IEEE Cat. No.04CH37535)
影响因子：
--
作者：
P. Kirby;D. Pukala;H. Manohara;I. Mehdi;J. Papapolymerou
通讯作者：
P. Kirby;D. Pukala;H. Manohara;I. Mehdi;J. Papapolymerou
影响因子：
4.3
作者：
V. Lubecke;K. Mizuno;Gabriel M. Rebeiz
通讯作者：
V. Lubecke;K. Mizuno;Gabriel M. Rebeiz
DOI：
10.1109/75.374082
发表时间：
1995-05
期刊：
IEEE Microwave and Guided Wave Letters
影响因子：
--
作者：
T. Weller;L. Katehi;Gabriel M. Rebeiz
通讯作者：
T. Weller;L. Katehi;Gabriel M. Rebeiz
影响因子：
4.3
作者：
S. Robertson;L. Katehi;Gabriel M. Rebeiz
通讯作者：
S. Robertson;L. Katehi;Gabriel M. Rebeiz
影响因子：
3
作者：
Sang-Sub Song;C. Yoo;K. Seo
通讯作者：
Sang-Sub Song;C. Yoo;K. Seo