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Helium Ionen Mikroskop

Helium Ionen Mikroskop
氦离子显微镜
批准号:
153171698
负责人:
金额:
$0.0万
依托单位:
依托单位国家:
德国
项目类别:
Major Research Instrumentation
财政年份:
2010
资助国家:
德国
项目状态:
未结题
起止时间:
2009-12-31 至 --
关键词:

项目摘要

项目成果

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中文摘要
翻译
“Die Entwicklung neuartiger Mikroskope und Mikroskopietechniken ermöglicht oftmalsFortschritte in der Nanotechnologie.一个氦离子显微镜将一个小的氦离子束从一个探针上取下。Dies bringt mehrere Vorteile:Zum einen lässt sich ein He+-Strahl feiner fokussieren als Elektronen,so dass man eine sehrhohe Auflösung erreicht.他和他的同事们都很熟悉这些材料,并对德国的材料进行了对比。在检测过程中,也会使用化学材料分析化学成像技术。FokussierteHelium Strahlen erlauben die lithographische Strukturierung sehr empfindlicher und dünnerProben,z. B。石墨烯。比勒费尔德大学准备进行氦离子微通道实验,在微通道和微通道光刻中进行氦离子的实验。大足大学将与赫斯特勒大学合作,在新的氦离子微通道实验中进行光刻、束流诱导化学、磁性吸附、生物材料吸附等韦尔登。“
英文摘要
„Die Entwicklung neuartiger Mikroskope und Mikroskopietechniken ermöglicht oftmalsFortschritte in der Nanotechnologie. Ein Helium Ionen Mikroskop verwendet einen feinfokussierten Helium Ionen Strahl zum Abrastern einer Probe. Dies bringt mehrere Vorteile:Zum einen lässt sich ein He+-Strahl feiner fokussieren als Elektronen, so dass man eine sehrhohe Auflösung erreicht. Zum anderen reagieren He+ spezifisch mit dem zu untersuchendenMaterial und man beobachtet deutlichen Materialkontrast. Durch die Detektion rückgestreuterIonen wird auch eine chemische Materialanalyse chemical imaging möglich. FokussierteHelium Strahlen erlauben die lithographische Strukturierung sehr empfindlicher und dünnerProben, z. B. von Graphene. Die Universität Bielefeld möchte ein Helium Ionen Mikroskopanschaffen, um den Einsatz von Helium Ionen in Mikroskopie und Lithographie zu erkunden.Dazu wird eine Kooperation mit dem Hersteller geschlossen, in der neue Anwendungen derHe+ Mikroskopie, insbesondere Lithographie, Beam induced chemistry, magnetischeAbbildung, Abbildung von Biomaterial, getestet werden.“
期刊论文(3)
专著(0)
科研奖励(0)
会议论文
DOI: 10.1063/1.4868097
发表时间: 2014-03
期刊: Applied Physics Letters
影响因子: 4
作者: [C. Thiele;H. Vieker;A. Beyer;B. Flavel;F. Hennrich;David Muñoz Torres;T. Eaton;M. Mayor;M. Kappes;A. Gölzhäuser;H. Löhneysen;R. Krupke]
通讯作者: C. Thiele;H. Vieker;A. Beyer;B. Flavel;F. Hennrich;David Muñoz Torres;T. Eaton;M. Mayor;M. Kappes;A. Gölzhäuser;H. Löhneysen;R. Krupke
DOI: 10.1021/la403407g
发表时间: 2014-02
期刊: Langmuir : the ACS journal of surfaces and colloids
影响因子: --
作者: [H. Takei;N. Bessho;A. Ishii;T. Okamoto;A. Beyer;H. Vieker;A. Gölzhäuser]
通讯作者: H. Takei;N. Bessho;A. Ishii;T. Okamoto;A. Beyer;H. Vieker;A. Gölzhäuser
DOI: 10.3762/bjnano.5.20
发表时间: 2014
期刊: Beilstein Journal of Nanotechnology
影响因子: 3.1
作者: [X. Zhang, H. Vieker, A. Beyer, A. Gölzhäuser]
通讯作者: A. Gölzhäuser
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