Development of functional transparent silica glass using mesoporous structure
Development of functional transparent silica glass using mesoporous structure
批准号:
24656388
负责人:
FUJINO SHIGERU
金额:
$2.41万
依托单位:
依托单位国家:
日本
项目类别:
Grant-in-Aid for Challenging Exploratory Research
财政年份:
2012
资助国家:
日本
项目状态:
已结题
起止时间:
2012-04-01 至 2014-03-31
中文摘要
对于使用纳米颗粒在二氧化硅玻璃上进行喷墨印刷以用于可印刷电子器件,存在极大的兴趣。我们制备的新型透明导电玻璃将有助于其在光学传感器、光导、光学透镜、微芯片等方面的应用。我们展示了使用介孔二氧化硅和金属氧化物纳米颗粒在二氧化硅玻璃上制备导电图案。 介孔氧化硅的孔径分布的聚(乙烯醇)的量作为粘合剂和悬浮液中的pH值的条款来确定。 Ga 2 O3掺杂的ZnO(镓掺杂氧化锌)和In 2 O3-SnO 2(ITO,氧化铟锡)等纳米粒子可以印刷在二氧化硅介孔材料的表面或内部,并在1200 ℃下共烧结形成电路图案。印刷在石英玻璃上的ITO在烧结后具有导电性。
英文摘要
There has been great interest in ink-jet printing on silica glass using nanoparticles for printable electronics. The novel transparent and electrical conductivity glass we prepared would be conducive to its use in optical sensor, light guide, optical lens, microchip etc. We demonstrated fabrication of electrically conductive pattern on silica glass using mesoporous silica and metal oxide nanoparticles. The pore size distribution of mesoporous silica was determined in terms of the poly(vinyl alcohol) amount as binder and the pH value in the suspension. The nanoparticles such as Ga2O3 doped ZnO(gallium-doped zinc oxide ) and In2O3-SnO2 (ITO, Indium tin oxide) could be printed on the surface or inside of the silica mesoporous and could form circuit pattern by co-sintering at 1200 degree. The ITO printed on silica glass has electrical conductivity after the sintering.
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Preparation of sintered silica glass using mesoporous SiO2/PVA composite
介孔SiO2/PVA复合材料制备烧结石英玻璃
DOI:
--
发表时间:
2013
期刊:
影响因子:
--
作者:
[S.Fujino, T.Kida, H. Ikeda]
通讯作者:
H. Ikeda
機械加工・成形性に優れたメソポーラスシリカとそれを用いた
具有优异加工性和成型性的介孔二氧化硅及其用途
DOI:
--
发表时间:
2014
期刊:
影响因子:
--
作者:
[H.Ikeda, T.Murata, S.Fujino, 藤野 茂, H.Ikeda,T.Murata and S.Fujino, 藤野 茂, 藤野茂, 藤野茂]
通讯作者:
藤野茂
Preparation of optoelectronics glass using mesoporous SiO_2/PVA
介孔SiO_2/PVA制备光电玻璃
DOI:
--
发表时间:
2012
期刊:
影响因子:
--
作者:
[S.Fujino, K.Nagano, H. Ikeda, T.Kajiwara]
通讯作者:
T.Kajiwara
工業材料
工业材料
DOI:
--
发表时间:
2010
期刊:
影响因子:
--
作者:
[佐藤千明, 他]
通讯作者:
他
塊状メソポーラスシリカと機能性シリカガラスの開発
块状介孔二氧化硅和功能性二氧化硅玻璃的开发
DOI:
--
发表时间:
2014
期刊:
工業材料
影响因子:
--
作者:
[H.Ikeda, T.Murata, S.Fujino, 藤野 茂]
通讯作者:
藤野 茂
共 15 条
Development of fabrication low energy process for functional silica glass
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批准号:26420756
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项目类别:Grant-in-Aid for Scientific Research (C)
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资助金额:$3.08万
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财政年份:2014
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负责人:FUJINO SHIGERU
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依托单位:
海外基金