Geometrisch-elektronische Eigenschaften von Metall-Chalkogenid-Schichtkristallstrukturen

这是一个独特的结构和电子特征，来自于金属-硫化物-Schichtkristallsystemen，来自于UHV Bedingungen和Anderen Mitgliedern的研究小组，通过化学准备工作。如果将类型[MS][TS 2]进行超链接，则可以使用一个超钢金属T和一个主金属M，也可以使用另一个超钢金属韦尔登进行垂直超钢[TS][T 'S2]。大韦尔登或所有oberflächenempfindliche Meßmethoden eingesetzt。该系统的韦尔登信息是通过在具有碱金属的床上插入的一种由生物、心理和情感组成的重力场来获得的，该系统的阻尼方法是通过电子结构的优化和未优化来获得的，并且该系统的阻尼特性的结构稳定性和阻尼特性也是通过该系统的阻尼特性来获得的。

Es sollen strukturelle und elektronische Eigenschaften von ausgewählten Metall-Sulfid-Schichtkristallsystemen untersucht werden, die von uns epitaktisch Lage für Lage unter UHVBedingungen und von anderen Mitgliedern der Forschergruppe durch chemische Präparationsverfahren hergestellt werden. Neben Fehlanpassungsverbindungen des Typs[MS][TS2], bei denen Schichten mit einem Übergangsmetall T und mit einem Hauptgruppenmetall M abwechseln, sollen auch vertikale Übergitter [TS][T'S2] mit alternierenden Übergangsmetallen untersucht werden. Dabei werden vor allem oberflächenempfindliche Meßmethoden eingesetzt. Die Untersuchungen werden Information über Wachstumsvorgänge wie Bildung von Clustern, Inseln und Fehlstellen an Grenzflächen sowie Interkalation bei Bedeckung mit Alkalimetallen liefern, die spektroskopischen Methoden darüber hinaus Information über die elektronische Bandstruktur besetzter und unbesetzter Zustände und damit auch über die strukturelle Stabilität und zum mikroskopischen Verständnis der vielfältigen makroskopischen Phänomene der Systeme geben.