Strömungskinematik in Hohlkathoden - Plasmajet - Entladungen für Oberflächenprozesse
Strömungskinematik in Hohlkathoden - Plasmajet - Entladungen für Oberflächenprozesse
批准号:
5208030
负责人:
Professor Dr.-Ing. Jürgen Engemann
金额:
$0.0万
依托单位国家:
德国
项目类别:
Research Grants
财政年份:
1999
资助国家:
德国
项目状态:
已结题
起止时间:
1998-12-31 至 2002-12-31
中文摘要
Die Leistungsfähigkeit von Plasmaquellen fr r Die Materialwissenschaft /- technology wind nachgem Stand bevorzugt auder Basis der elektrischen Leistungsbilanz beweret。Dieses Vorgehen impliziert eine homogene Gasströmung begleichzeitig fester Residenzzeit von Primär-Gaspartikeln im plasmaanregenden volume。Eine derartige Annahme ist unzureichend und realitätsfern。Die daraus resultierenden Schwierigkeiten werden besonders deutlich bei sich ändernden betriebparametern der Quellen, sich ändernden Lastzuständen (Beladung mit substrate and generell der geometrischen Skalierung)。Mehr noch: Ziel musß sein, das gesamte plasmassystem, welches die plasmaerzeeugenden Komponenten als Subsystem enthält, zu berksichtigen。Sowohl die elektrische Leistungskopplung mit dem Plasma als Last als auch die gleichzeitig präsente Druck- und Geometrie abhängige Gasströmung im Gesamtsystem simtan zu bercksictigen。13,56 MHz HCD -300等离子体-等离子体(HCD -300) sollen erste Schritte in dieser Richtung,即einer umfassenderen Feld- und Strömungssimulation gegangen werden, um eine bessere Basis f<e:1> r die Konzeption leistungsfähigerer等离子体- und radikalenenellen begleichzeitiger bercksichtigung des gesamtem proze - raumes in einem ausgedehnten Arbeitsdruckbereich zu erhalten。在arbeitsmethodischer Reihenfolge umfaßt dies中:1。实施cfd程序市场(FLUENT, Fa)。2. Fluent公司,黎巴嫩,新罕布什尔州,美国);2 . bercksichtigung原子与分子Gase (Strömungsverhalten und -geschwindigkeiten, Verweildauer der Spezies im System);Korrelation der Strömungssimulation mit Ergebnissen aus feldrechungen (MAFIA, Fa。CST-Gesellschaft <s:2>计算机仿真技术有限公司,达姆施塔特)。
英文摘要
Die Leistungsfähigkeit von Plasmaquellen für die Materialwissenschaft /-technologie wird nach heutigem Stand bevorzugt auf der Basis der elektrischen Leistungsbilanz bewertet. Dieses Vorgehen impliziert eine homogene Gasströmung bei gleichzeitig fester Residenzzeit von Primär-Gaspartikeln im plasmaanregenden Volumen. Eine derartige Annahme ist unzureichend und realitätsfern. Die daraus resultierenden Schwierigkeiten werden besonders deutlich bei sich ändernden Betriebsparametern der Quellen, sich ändernden Lastzuständen (Beladung mit Substraten und generell der geometrischen Skalierung.Mehr noch: Ziel muß sein, das gesamte Plasmasystem, welches die plasmaerzeugenden Komponenten als Subsystem enthält, zu berücksichtigen. Sowohl die elektrische Leistungskopplung mit dem Plasma als Last als auch die gleichzeitig präsente Druck- und Geometrie abhängige Gasströmung im Gesamtsystem sind simultan zu berücksichtigen.Am Beispiel einer im fmt entwickelten und technologisch relevanten 13,56 MHz Hohlkathoden Plasmajet-Plasmaquelle (HCD L-300) sollen erste Schritte in dieser Richtung, i.e. einer umfassenderen Feld- und Strömungssimulation gegangen werden, um eine bessere Basis für die Konzeption leistungsfähigerer Plasma- und Radikalenquellen bei gleichzeitiger Berücksichtigung des gesamtem Prozeßraumes in einem ausgedehnten Arbeitsdruckbereich zu erhalten. In arbeitsmethodischer Reihenfolge umfaßt dies: 1. Implementierung eines CFD-Programmpaketes (FLUENT, Fa. Fluent Inc., Lebanon, NH, USA), 2. Berücksichtigung atomarer und molekularer Gase (Strömungsverhalten und -geschwindigkeiten, Verweildauer der Spezies im System) und 3. Korrelation der Strömungssimulation mit Ergebnissen aus Feldrechnungen (MAFIA, Fa. CST-Gesellschaft für Computer Simulationstechnik mbH, Darmstadt).
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会议论文
Untersuchung von dielektrisch behinderten Oberflächenentladungen für den Einsatz als Remote-Plasmaquellen bei Atmosphärendruck
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批准号:5426019
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项目类别:Research Grants
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资助金额:$0.0万
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财政年份:2004
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负责人:Professor Dr.-Ing. Jürgen Engemann
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依托单位:
Monomer return flow in hollow cathode jet plasma sources for film deposition
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批准号:5403111
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项目类别:Research Grants
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资助金额:$0.0万
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财政年份:2003
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负责人:Professor Dr.-Ing. Jürgen Engemann
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依托单位:
High frequency (Radio frequency) hollow cathode discharge matrixes at atmospheric pressure for surface deposition, modification and cleaning
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批准号:5266496
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项目类别:Research Grants
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资助金额:$0.0万
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财政年份:2000
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负责人:Professor Dr.-Ing. Jürgen Engemann
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依托单位:
Großflächige Plasmaquellen mit Multijet-Hohlkathoden-Hochfrequenz-Entladung: Untersuchung, Modellierung und Simulation
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批准号:5123426
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项目类别:Research Grants
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资助金额:$0.0万
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财政年份:1998
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负责人:Professor Dr.-Ing. Jürgen Engemann
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依托单位:
Ortsaufgelöste Stromdichte-/Energieverteilungsanalyse in einem reaktiven Niederenergie-Ionenstrahl großen Querschnittes
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批准号:5209588
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项目类别:Research Grants
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资助金额:$0.0万
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财政年份:1995
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负责人:Professor Dr.-Ing. Jürgen Engemann
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依托单位: