Photodesorption of simple molecules from ultra-thin metal-films as a probe of electrodynamics

光解吸Einfacher Moleküle Wie no，CO和NH3 von Metallberflächen wird endch einen Machismus Dominiert，be DEM der Eigentliche Desorptions sprozeüdch einen Elektronentansferproze？PhotoGenerierter，Heiüer Elektronen zum Adsorous Gelöst wird。在本发明中，光吸收技术主要包括以下几个方面：a)吸收材料和材料；b)材料的吸收和许可；c)材料的运输；3)材料的物理性能；3)材料的质量；3)材料的质量和质量。这是一种特殊的生活方式，它是一种变化。在此基础上，提出了一种新的光解吸新方法。Dadurch Sollen die gegenwärtigen modellvor stellungen geprüft and weterentwickelt den.

Die Photodesorption einfacher Moleküle wie NO, CO und NH3 von Metalloberflächen wird durch einen Mechanismus dominiert, bei dem der eigentliche Desorptionsprozeß durch einen Elektronentransferprozeß photogenerierter, heißer Elektronen zum Adsorbat ausgelöst wird. In diesem Bild ist die Photodesorption durch drei grundlegende Eigenschaften maßgeblich bestimmt:a) die Bindung des Adsorbats an das Substrat,b) die optischen Absorptionseigenschaften des Substratsund c) die Transporteigenschaften heißer Elektronen im Substrat.Diese drei Eigenschaften werden physikalisch auf verschiedenen Längenskalen bestimmt: den 3 obersten Lagen des Substrats, der optischen Eindringtiefe des Lichts und der freien Weglänge der heißen Elektronen. Es sollen Halbleiter-Metall-Schichtsysteme verwendet werden, um diese drei Eigenschaften gezielt zu variieren. Dabei sollen die Photodesorptionsquerschnitte und die Zustandsverteilungen der desorbierten Moleküle für verschiedene Schichtdicken und Anregungsenergien bestimmt werden. Dadurch sollen die gegenwärtigen Modellvorstellungen geprüft und weiterentwickelt werden.