Development of continuous flowing high density plasma source in the atmospheric pressure?
Development of continuous flowing high density plasma source in the atmospheric pressure?
批准号:
18560268
负责人:
MAEYAMA Mitsuaki
金额:
$2.28万
依托单位:
依托单位国家:
日本
项目类别:
Grant-in-Aid for Scientific Research (C)
财政年份:
2006
资助国家:
日本
项目状态:
已结题
起止时间:
2006 至 2007
中文摘要
微空心阴极放电(MHCD)是一种很有前途的产生常压辉光等离子体的方法。为了产生三维大体积常压辉光等离子体,需要对微阴极持续放电进行并行操作。在本研究中,我们演示了平板和圆柱几何形状下的平行MCS放电,如下:1 .稳定并联MHCD的演示比较几种介质材料(云母、特氟龙、FR-4)的MHCD电流-电压特性,使用FR-4的MHCD电极寿命长,放电电流范围宽,超过100ma。从MHCD电极向MCS放电区域注入大量等离子体,证明MCS放电的击穿电压和维持电压是由MHCD电流值控制的。在此条件下,平板电极和圆柱形电极的平行MCS放电非常适合于连续气体处理应用。
英文摘要
The micro hollow cathode discharge (MHCD) is a promising one to generate a atmospheric pressure glow plasma. And, to produce 3-dimensional large volume and atmospheric pressure glow plasma, parallel operations of the micro-cathode sustained (MCS) discharge is required. In this study, we demonstrated parallel MCS discharges in flat plate and cylindrical geometries, as follow,1: Demonstration of stable parallel MHCD Comparing current-voltage characteristics of MHCD of several dielectric materials (mica, Teflon, FR-4), MHCD electrode using FR-4 has a long lifetime and wide discharge current range over 100mA.2: Resolving operating conditions of parallel MCS discharge Injecting large amount of plasma from MHCD electrodes to MCS discharge region, the break down and the sustaining voltages of MCS discharge is demonstrated to be controlled by the current value of MHCD. And using these conditions, parallel MCS discharges of flat plate electrodes, furthermore cylindrical shaped electrode which suites well for the continuous gas treatment applications.
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並列MHCDを利用した大容積プラズマ源に与える単一MHCDの影響
使用并联 MHCD 的单个 MHCD 对大容量等离子体源的影响
DOI:
--
发表时间:
2007
期刊:
平成19年電気学会全国大会 講演予稿集 1
影响因子:
--
作者:
[Kazunari, Shinbo, et. al., 石ヶ谷 章弘]
通讯作者:
石ヶ谷 章弘
Micro Hollow Cathode Discharge for Large Volume and Atmospheric Pressure Glow Plasma Source
用于大容量和大气压辉光等离子体源的微型空心阴极放电
DOI:
--
发表时间:
2007
期刊:
影响因子:
--
作者:
[Kazunari, Shinbo, et. al., 石ヶ谷 章弘, 岩崎 正浩, 石ヶ谷 章弘, 前山 光明, 前山 光明, 石ケ谷章弘, A. Ishigaya]
通讯作者:
A. Ishigaya
圧力情報の追加による磁気面内部補間解析の収束性の検討
通过添加压力信息检查磁面内插分析的收敛性
DOI:
--
发表时间:
2007
期刊:
平成19年電気学会全国大会 講演予稿集 1
影响因子:
--
作者:
[Kazunari, Shinbo, et. al., 石ヶ谷 章弘, 岩崎 正浩]
通讯作者:
岩崎 正浩
Effects of one MHCD to the Large Volume Plasma using parallel MHCDs
使用并行 MHCD 时,一台 MHCD 对大容量等离子体的影响
DOI:
--
发表时间:
2007
期刊:
影响因子:
--
作者:
[Kazunari, Shinbo, et. al., 石ヶ谷 章弘, 岩崎 正浩, 石ヶ谷 章弘, 前山 光明, 前山 光明, 石ケ谷章弘, A. Ishigaya, M. Maeyama, M. Maeyama, 石ケ谷章弘, M. Maeyama, A. Ishigaya]
通讯作者:
A. Ishigaya
磁気閉じ込めプラズマの磁気面内部補間解析における圧力情報の効果の検討
磁约束等离子体磁表面内插分析中压力信息影响的检验
DOI:
--
发表时间:
2006
期刊:
(社)プラズマ・核融合学会 第23回年回予稿集
影响因子:
--
作者:
[Kazunari, Shinbo, et. al., 石ヶ谷 章弘, 岩崎 正浩, 石ヶ谷 章弘, 前山 光明]
通讯作者:
前山 光明
共 9 条
Development of an atmospheric pressure plasma source capable of generating massive amounts of chemically active species and evaluation of decomposition performance for refractory solutions
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批准号:15K05932
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项目类别:Grant-in-Aid for Scientific Research (C)
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资助金额:$2.83万
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财政年份:2015
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负责人:MAEYAMA Mitsuaki
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依托单位:
DEVELOPMENT OF THE HIGH REPETITIVE IMPULSE VOLTAGE GENERATOR USING SEMICONDUCTOR SWITCHES
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批准号:10650270
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项目类别:Grant-in-Aid for Scientific Research (C)
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资助金额:$1.66万
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财政年份:1998
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负责人:MAEYAMA Mitsuaki
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依托单位:
海外基金