Study of insulator/Si interfaces and their stress using a monoenergetic positron beam
Study of insulator/Si interfaces and their stress using a monoenergetic positron beam
批准号:
19360285
负责人:
UEDONO Akira
金额:
$9.32万
依托单位:
依托单位国家:
日本
项目类别:
Grant-in-Aid for Scientific Research (B)
财政年份:
2007
资助国家:
日本
项目状态:
已结题
起止时间:
2007 至 2010
中文摘要
我们发展了一种基于正电子湮没技术的金属氧化物/半导体结构的分析方法来研究器件工艺。利用单能正电子束、XPS和电性能测试等手段,对TiN/SiO_2/SiHfSiO_x/SiCVD-SiO_2和SiO_2样品进行了表征,研究了点缺陷与电性能的关系。我们还研究了Cu/low-k结构中的low-k材料和势垒金属。
英文摘要
We developed an analysis method for metal oxides/semiconductor structures based on the positron annihilation technique to study device processes. Using monoenergetic positron beams, XPS, and measurements of the electric properties of samples, we characterized TiN/SiO_2/Si HfSiO_x/Si CVD-SiO_2, and SiO_2 to study the relationship between point defects and the electric properties. We also studied low-k materials and barrier metals in Cu/low-k structures.
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低速陽電子ビームを用いた配線構造中のLow-k膜及びCu配線の欠陥評価
使用慢正电子束评估互连结构中低 k 膜和铜互连的缺陷
DOI:
--
发表时间:
2010
期刊:
電子デバイスにおける原子輸送・応力問題 第15回研究会予稿集
影响因子:
--
作者:
[上殿明良, 他]
通讯作者:
他
低速陽電子ビームを用いたCu/Low-k配線構造中の欠陥検出
使用慢正电子束检测 Cu/低 k 互连结构中的缺陷
DOI:
--
发表时间:
2010
期刊:
影响因子:
--
作者:
[H. Tanimoto, K. Yamada, H. Mizubayashi, Y. Matsumoto, H. Naramoto, S. Sakai, A.Uedono, 上殿明良,井上尚也,林喜宏,江口和弘,中村友二,廣瀬幸範,吉丸正樹,大島永康,大平俊行,鈴木良一]
通讯作者:
上殿明良,井上尚也,林喜宏,江口和弘,中村友二,廣瀬幸範,吉丸正樹,大島永康,大平俊行,鈴木良一
陽電子の基礎と最先端
正电子的基础和前沿
DOI:
--
发表时间:
2010
期刊:
影响因子:
--
作者:
[上殿明良, et al., 大島永康, A. Uedono, 上殿明良,石橋章司,大島永康,大平俊行,鈴木良一]
通讯作者:
上殿明良,石橋章司,大島永康,大平俊行,鈴木良一
Vacancy-Boron Complexes in Plasma Immersion Ion-Implanted Si Probed by a Monoenergetic Positron Beam
DOI:
10.1143/jjap.49.051301
发表时间:
2010-05
期刊:
Japanese Journal of Applied Physics
影响因子:
1.5
作者:
[A. Uedono;K. Tsutsui;S. Ishibashi;Hiromichi Watanabe;S. Kubota;Y. Nakagawa;B. Mizuno;T. Hattori;H. Iwai]
通讯作者:
A. Uedono;K. Tsutsui;S. Ishibashi;Hiromichi Watanabe;S. Kubota;Y. Nakagawa;B. Mizuno;T. Hattori;H. Iwai
Vacancy-type defects in ultra-shallow junctions fabricated using plasma doping studied by positron annihilation
通过正电子湮灭研究使用等离子体掺杂制造的超浅结中的空位型缺陷
DOI:
--
发表时间:
2010
期刊:
影响因子:
--
作者:
[A.Uedono, K.Tsutsui, S.Ishibashi, H.Watanabe, S.Kubota, K.Tenjinbayashi1, Y.Nakagawa, B.Mizuno, T.Hattori, H.Iwai]
通讯作者:
H.Iwai
共 22 条
Study of vacancy-type defects in metal/metal-oxide by means of positron annihilation
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批准号:16560574
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项目类别:Grant-in-Aid for Scientific Research (C)
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资助金额:$2.3万
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财政年份:2004
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负责人:UEDONO Akira
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依托单位:
STUDY OF POINT DEFECTS IN GaN AND RELATED COMPOUND SEMICONDUCTORS BY MEANS OF POSITRON ANNIHILATION
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批准号:13650332
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项目类别:Grant-in-Aid for Scientific Research (C)
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资助金额:$1.34万
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财政年份:2001
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负责人:UEDONO Akira
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依托单位:
Development of a pulshed monoenergetic positron beam line
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批准号:06555175
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项目类别:Grant-in-Aid for Developmental Scientific Research (B)
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资助金额:$4.67万
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财政年份:1994
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负责人:UEDONO Akira
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依托单位:
海外基金