Nanodrähte und Dünnschichten mit niederdimensionalen elektronischen Eigenschaften

在此基础上，设计并实现了一种新型的金属沉积方法--金属沉积。在金属材料(W，Mo，Edelmetalle)和金属材料(W，Mo，Edelmetalen)之间，从金属材料到金属材料，从金属到金属。在紫外光照射下就地制备宝石。在此基础上，进行了光电子能谱分析和光谱分析。

Gegenstand des Projekts ist die Untersuchung niederdimensionaler elektronischer Phänomene, die sich bei der Deposition metallischer Dünnschichten (Schichtdickenbreite zwischen Submonolagen und einigen 10 Å) auf gestuften Substratoberflächen ergeben. Konkret handelt es sich bei den betrachteten Systemen zum einen um Stufendekoration vizinaler Si-, W- und Mo-Oberflächen mit Seltenerd- und Edelmetallen, zum anderen um metallische Schichten (Mg, Ca, Al, Seltene Erden und Edelmetalle) mit Dicken von mehreren Monolagen auf gestuften metallischen Substraten (W, Mo, Edelmetalle), bei denen untersucht werden soll, ob durch Kombination schichtdickenabhängiger Quantentrogzustände mit lateralem Confinement auch bei vergleichsweise makroskopischen Dünnschichten quasi-eindimensionale elektronische Eigenschaften auftreten. Die Präparation der Proben erfolgt jeweils in-situ unter Ultrahochvakuumbedingungen. Untersuchungsmethoden sind winkelaufgelöste Photoemission, LEED und Rastertunnelmikroskopie bzw. -spektroskopie.