A high-speed exposure method for digital micromirror device based scanning maskless lithography system
A high-speed exposure method for digital micromirror device based scanning maskless lithography system
复制标题
一种基于数字微镜器件的扫描无掩模光刻系统的高速曝光方法
DOI：
10.1016/j.ijleo.2019.04.009
复制
发表时间：
2019-05
期刊：
影响因子：
3.1
通讯作者：
Chi Wenming
中科院分区：
文献类型：
--
作者：
Peng Chao;Zhang Zezhou;Zou Jianxiao;Chi Wenming
在扫描无掩模光刻过程中，曝光速度决定了光刻的效率和生产率。为了优化扫描式无掩模光刻系统的曝光工艺，提高曝光速度，提出了一种基于数字微镜器件（DMD）的高速曝光方法。首先介绍了基于DMD的无掩模曝光系统的结构和工作原理。然后，提出了该方法的基本原理。设计了所提出方法的曝光流程，以及流程中的各个模块，包括扫描步距预处理模块、扫描步距数据存储模块、高速实时曝光图像处理模块和点阵控制模块。最后，在基于TI DMD的扫描式无掩模光刻系统上进行了曝光实验，实验结果验证了该方法的有效性。
During the process of scanning maskless lithography, exposure speed determines the efficiency and productivity of lithography fabrication. In this paper, a novel Digital Micromirror Device(DMD) based high-speed exposure method is proposed to optimize the exposure process and improve speed of scanning maskless lithography system. At first, structure and working principle of the DMD based maskless exposure system is presented. Then, fundamental principle of the proposed method is proposed. Exposure process of the proposed method and each module in the process including in scan stride pretreatment module, scan stride data storage module, high-speed real-time exposure image processing module and micromirror arrays control module are designed. Finally, the proposed method is implemented in the exposure experiment with TI DMD based scanning maskless lithography system and the results demonstrated the effectiveness of the proposed method.
登录
查看更多内容
影响因子：
--
作者：
Dong-Hee Lee
通讯作者：
Dong-Hee Lee
DOI：
10.1016/j.proeng.2015.08.778
发表时间：
2015
期刊：
Procedia Engineering
影响因子：
--
作者：
Xiaoxu Ma;Y. Kato;F. V. Kempen;Y. Hirai;T. Tsuchiya;F. Keulen;O. Tabata
通讯作者：
Xiaoxu Ma;Y. Kato;F. V. Kempen;Y. Hirai;T. Tsuchiya;F. Keulen;O. Tabata
改进的基于数字微镜器件的单次扫描三维光刻的切片策略
影响因子：
1.3
作者：
Huang Shengzhou;Li Mujun;Shen Lianguan;Qiu Jinfeng;Zhou Youquan
通讯作者：
Zhou Youquan
DOI：
10.1016/j.cie.2011.11.024
发表时间：
2013-05
期刊：
Comput. Ind. Eng.
影响因子：
--
作者：
Chen-Fu Chien;Chia-Yu Hsu;Kuo-Hao Chang
通讯作者：
Chen-Fu Chien;Chia-Yu Hsu;Kuo-Hao Chang
影响因子：
64.8
作者：
M. Schulz
通讯作者：
M. Schulz