Formation of Co_2FeSi/SiO_xN_y/Si tunnel junctions for Si-based spin transistors

Formation of Co_2FeSi/SiO_xN_y/Si tunnel junctions for Si-based spin transistors
复制标题

Si基自旋晶体管Co_2FeSi/SiO_xN_y/Si隧道结的形成

DOI:
--
复制
发表时间:
2010
期刊:
J.Appl.Phys.
影响因子:
--
通讯作者:
Satoshi Sugahara
Satoshi Sugahara
中科院分区:
--
文献类型:
--
作者:
Kengo Hayashi;Yota Takamura;Ryosyo Nakane;Satoshi Sugahara

文献摘要

参考文献

被引文献

相似文献

DOI: 10.1063/1.3075989
发表时间: 2009-02
影响因子: 3.2
作者:
Y. Takamura;R. Nakane;S. Sugahara
通讯作者: Y. Takamura;R. Nakane;S. Sugahara
用于 VLSI 互连的选择性化学镀铜
DOI: --
发表时间: 1989
影响因子: 4.9
作者:
P. Pai;C. Ting
通讯作者: C. Ting
DOI: 10.1063/1.1689403
发表时间: 2004-03-29
影响因子: 4
作者:
Sugahara, S;Tanaka, M
通讯作者: Tanaka, M
使用分子离子 CsM+ 测量 III-V 族半导体化合物的新型二次离子质谱技术
DOI: 10.1063/1.341381
发表时间: 1988
影响因子: 3.2
作者:
Y. Gao
通讯作者: Y. Gao
电子隧道穿过氢封端 Si(100) 表面上形成的超薄栅极氧化物
DOI: 10.1143/jjap.33.395
发表时间: 1994
影响因子: 1.5
作者:
M. Hiroshima;Tatsuhiro Yasaka;Seiichi Miyazaki Seiichi Miyazaki;Masataka Hirose Masataka Hirose
通讯作者: Masataka Hirose Masataka Hirose