Indentation-induced low-temperature solid-phase crystallization of Si1-xGex (x: 0-1) on insulator
Indentation-induced low-temperature solid-phase crystallization of Si1-xGex (x: 0-1) on insulator
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绝缘体上 Si1-xGex (x: 0-1) 的压痕诱导低温固相结晶
DOI：
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发表时间：
2009
期刊：
影响因子：
--
通讯作者：
M. Miyao
中科院分区：
文献类型：
--
作者：
K. Toko;T. Sadoh;M. Miyao
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影响因子：
4
作者：
H. Kanno;K. Toko;T. Sadoh;M. Miyao
通讯作者：
H. Kanno;K. Toko;T. Sadoh;M. Miyao
影响因子：
4
作者：
H. Kanno;A. Kenjo;T. Sadoh;M. Miyao
通讯作者：
H. Kanno;A. Kenjo;T. Sadoh;M. Miyao
SiO2 上非晶 Si1-xGex (0≤x≤1) 的 Ge 分数相关金属诱导横向结晶
DOI：
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发表时间：
2003
期刊：
Appl.Phys.Lett. Vol.82
影响因子：
--
作者：
M.Miyao 他;M.Miyao 他;M.Miyao et al.;M.miyao et al.;M.Miyao 他;M.Miyao 他;I.Tsunoda 他;I.Tsunoda 他;宮尾 正信 他;I.Tsunoda et al.;I.Tsunoda et al.;T.Sadoh et al.;I.Tsunoda 他;I.Tsunoda 他;I.Tsunoda 他;T.Sadoh 他;T.Sadoh 他;宮尾 正信 他;H.Kanno 他;H.Kanno et al.
通讯作者：
H.Kanno et al.
DOI：
--
发表时间：
1979
期刊：
影响因子：
--
作者：
K. Zellama;P. Germain;S. Squelard;J. Bourgoin;P. Thomas
通讯作者：
P. Thomas
非晶硅中的可变应变能
DOI：
10.1557/jmr.1988.1201
发表时间：
1988
期刊：
影响因子：
--
作者：
W. Sinke;S. Roorda;F. Saris
通讯作者：
F. Saris