Outgassing Characteristics of Structural Materials and the Removal of Contaminants from EUVL Masks using 172-nm Radiation
Outgassing Characteristics of Structural Materials and the Removal of Contaminants from EUVL Masks using 172-nm Radiation
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结构材料的释气特性以及使用 172 nm 辐射去除 EUVL 掩模中的污染物
DOI：
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发表时间：
2004
期刊：
影响因子：
--
通讯作者：
H.Kinoshita
中科院分区：
文献类型：
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作者：
K.Hamamoto;Y.Tanaka;T.Watanabe;N.Sakaya;M.Hosoya;T.Shoki;H.Sugahara;N.Hishinuma;H.Hada;H.Kinoshita
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在新斯巴鲁使用极紫外线实验室工具获得的实验结果
影响因子：
1.5
作者：
H. Kinoshita;Takeo Watanabe
通讯作者：
Takeo Watanabe
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影响因子：
0.8
作者：
Takeo Watanabe;K. Hamamoto;H. Kinoshita;H. Tsubakino;H. Hada;H. Komano;M. Endo;M. Sasago
通讯作者：
M. Sasago
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影响因子：
1.5
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通讯作者：
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EUVL 口罩成品的污染物去除研究
DOI：
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发表时间：
2003
期刊：
J.Photopolym.Sci.Technol. 16,3
影响因子：
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作者：
K.Hamamoto;S.Takada;T.Watanabe;N.Sakaya;T.Shoki;M.Hosoya;H.Kinoshita
通讯作者：
H.Kinoshita
用于极紫外光刻的光化掩模计量
DOI：
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发表时间：
2004
期刊：
J.Vac.Sci.Technol. B22(1)
影响因子：
--
作者：
H.Kinoshita;T.Haga;K.Hamamoto;S.Takada;N.Kazui;S.Kakunai;H.Tsubakino;T.Shoki;M.Endo;T.Watanabe
通讯作者：
T.Watanabe