Fabrication of Lead-based Ferroelectric Thin Films by Spray-MOCVD
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喷雾MOCVD法制备铅基铁电薄膜
DOI：
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发表时间：
2007
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
Yohei Otani
中科院分区：
文献类型：
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作者：
Matsudaira;H.;Umezawa;H.;Kawarada;Yohei Otani;Kiyoshi Uchiyama;K.Uchiyama;Yohei Otani
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金属有机化学气相沉积法在 Pt/SiO2/Si 基片上制备 PbTiO3 薄膜的介电性能和晶体结构的膜厚依赖性
影响因子：
1.5
作者：
H. Funakubo;T. Hioki;M. Otsu;Kazuo Shinozaki Kazuo Shinozaki;Nobuyasu Mizutani Nobuyasu Mizutani
通讯作者：
Nobuyasu Mizutani Nobuyasu Mizutani
溅射辅助等离子体CVD制备PbTiO3薄膜的取向（二）
DOI：
10.3131/jvsj.38.244
发表时间：
1993
期刊：
Shinku
影响因子：
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作者：
T. Mihara;S. Mochizuki;R. Makabe
通讯作者：
R. Makabe
多离子束溅射和离子辅助沉积制备铁电PbTiO3薄膜
影响因子：
1.5
作者：
I. Kanno;T. Kamada;S. Hayashi;Masatoshi Kitagawa Masatoshi Kitagawa;Takashi Hirao Takashi Hirao
通讯作者：
Takashi Hirao Takashi Hirao
金属有机化学气相沉积制备铁电薄膜的金属配合物
影响因子：
1.5
作者：
T. Nakai;T. Tabuchi;Yoshinori Sawado;Ichizo Kobayashi Ichizo Kobayashi;Yoshiaki Sugimori Yoshiaki Sugimori
通讯作者：
Yoshiaki Sugimori Yoshiaki Sugimori
电极对Pb(Zr0.53Ti0.47)O3薄膜相演化和微观结构的影响
影响因子：
0.8
作者：
H. Alshareef;K. R. Becllur;O. Auciello;A. I. Kzngon
通讯作者：
A. I. Kzngon