Improved Inclined Multi-Lithography Using Water As Exposure Medium And Its 3-D Mixing Microchannel Application
Improved Inclined Multi-Lithography Using Water As Exposure Medium And Its 3-D Mixing Microchannel Application
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改进的以水为曝光介质的倾斜多重光刻及其3-D混合微通道应用
DOI：
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发表时间：
2006
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
S.Shoji
中科院分区：
文献类型：
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作者：
H.Sato;D.Yagyu;S.Ito;S.Shoji
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影响因子：
4.6
作者：
Sato, H;Ito, S;Shoji, S
通讯作者：
Shoji, S
采用倾斜 SU-8 结构的集成立式筛网微过滤系统
DOI：
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发表时间：
2003
期刊：
The Sixteenth Annual International Conference on Micro Electro Mechanical Systems, 2003. MEMS-03 Kyoto. IEEE
影响因子：
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作者：
Y. Yoon;Jung;F. Cros;Mark G. Allen
通讯作者：
Mark G. Allen
UV光刻和电镀微加工3D多向倾斜结构
DOI：
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发表时间：
1994
期刊：
Proceedings IEEE Micro Electro Mechanical Systems An Investigation of Micro Structures, Sensors, Actuators, Machines and Robotic Systems
影响因子：
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作者：
C. Beuret;G. Racine;Gobet;R. Luthier;N.;de Rooij
通讯作者：
de Rooij
连续变化的三维 SU-8 结构：倾斜磁力致动器的制造
DOI：
10.1109/memsys.2002.984233
发表时间：
2002
期刊：
Technical Digest. MEMS 2002 IEEE International Conference. Fifteenth IEEE International Conference on Micro Electro Mechanical Systems (Cat. No.02CH37266)
影响因子：
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作者：
Yoonsu Choi;Kieun Kim;M. Allen
通讯作者：
M. Allen
从单个雷弗雷 SU-8 快速制造嵌入式微通道，并使用激光声学技术确定 SU-8 杨氏模量对暴露剂量的依赖性
DOI：
10.1109/memsys.2005.1454014
发表时间：
2005
期刊：
18th IEEE International Conference on Micro Electro Mechanical Systems, 2005. MEMS 2005.
影响因子：
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作者：
H. Yu;O. Balogun;B. Li;T. Murray;Xin Zhang
通讯作者：
Xin Zhang