Transmission Electron Microscopy Study of an AlN Nucleation layer for the Growth of GaN on a 7-Degree Off-Oriented (001) Si Substrate by Metalorganic Vapor Phase Epitaxy.

Transmission Electron Microscopy Study of an AlN Nucleation layer for the Growth of GaN on a 7-Degree Off-Oriented (001) Si Substrate by Metalorganic Vapor Phase Epitaxy.
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通过金属有机气相外延在 7 度偏向 (001) Si 衬底上生长 GaN 的 AlN 成核层的透射电子显微镜研究。

DOI:
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发表时间:
2004
期刊:
J.Crystal Growth 260
影响因子:
--
通讯作者:
M.Ichihasi 他4名
M.Ichihasi 他4名
中科院分区:
--
文献类型:
--
作者:
S.Tanaka;T.Tanji;M.Ichihasi 他4名

文献摘要

参考文献

被引文献

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