Texas A&M University(米国)
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德克萨斯农工大学（美国）
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减少对环境影响的光刻胶设计。
影响因子：
8.6
作者：
J. M. Havard;Sang;J. Fréchet;Q. Lin;D. Medeiros;C. Willson;J. Byers
通讯作者：
J. Byers
用于微光刻的阳离子化学和化学放大抗蚀剂材料：4-(1-羟基-1-甲基乙基)苯乙烯和苯乙烯或4-羟基苯乙烯共聚物的合成和应用
DOI：
10.1016/0032-3861(94)90041-8
发表时间：
1994
期刊：
影响因子：
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作者：
M. Yoshida;J. Fréchet
通讯作者：
J. Fréchet
一种可水浇注、可水显影的化学放大负色调光刻胶
DOI：
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发表时间：
1997
期刊：
影响因子：
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作者：
Q. Lin;Thomas Steinhäusler;L. Simpson;Michelle Wilder;D. Medeiros;C. Willson;J. M. Havard;J. Fréchet
通讯作者：
J. Fréchet
树枝状聚合物单层作为扫描探针光刻的负色调和正色调光刻胶
影响因子：
10.8
作者：
M. Rolandi;I. Suez;H. Dai;J. Fréchet
通讯作者：
J. Fréchet
采用 2EAdMA/GBLMA 树脂系统的正性 ArF 抗蚀剂
DOI：
10.1117/12.350233
发表时间：
1999
期刊：
Advanced Lithography
影响因子：
--
作者：
Y. Uetani;Hiroaki Fujishima;K. Araki;K. Endo;I. Takemoto
通讯作者：
I. Takemoto