Ni/Ta2O5/TiN素子におけるデジタルおよびアナログ抵抗変化
Ni/Ta2O5/TiN素子におけるデジタルおよびアナログ抵抗変化
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Ni/Ta2O5/TiN 元件的数字和模拟电阻变化
DOI：
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发表时间：
2021
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
西佑介
中科院分区：
文献类型：
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作者：
宮谷俊輝;山田和尚;木本恒暢;西佑介
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影响因子：
3.4
作者：
Bestoon Anwer Hamad Ameen;A. Yildiz;W. Farooq;F. Yakuphanoglu
通讯作者：
Bestoon Anwer Hamad Ameen;A. Yildiz;W. Farooq;F. Yakuphanoglu
影响因子：
2.4
作者：
Seon-Ho Jang;Ja‐Soon Jang
通讯作者：
Seon-Ho Jang;Ja‐Soon Jang
溶胶-凝胶法制备 Ta2O5 超薄膜
影响因子：
2.1
作者：
M. Wolf;J. Roitsch;J. Mayer;A. Nijmeijer;H. Bouwmeester
通讯作者：
H. Bouwmeester
DOI：
10.1016/j.microrel.2004.04.018
发表时间：
2005
期刊：
Microelectron. Reliab.
影响因子：
--
作者：
E. Atanassova;R. Konakova;V. F. Mitin;J. Koprinarova;O. S. Lytvym;O. B. Okhrimenko;V. V. Schinkarenko-V.;D. Virovska
通讯作者：
E. Atanassova;R. Konakova;V. F. Mitin;J. Koprinarova;O. S. Lytvym;O. B. Okhrimenko;V. V. Schinkarenko-V.;D. Virovska
通过脉冲激光沉积合成五氧化二钽薄膜：材料表征和放大
影响因子：
2.1
作者：
S. Boughaba;G. Sproule;J.P McCaffrey;M. Islam;M. J. Graham
通讯作者：
M. J. Graham