Effects of nitrogen concentration on microstructures of WN_X films by cathodic arc method
Effects of nitrogen concentration on microstructures of WN_X films by cathodic arc method
复制标题
氮浓度对阴极电弧法WN_X薄膜微观结构的影响
DOI：
--
复制
发表时间：
2005
期刊：
影响因子：
--
通讯作者：
Tomonari Yamamoto et al.
中科院分区：
文献类型：
--
作者：
中野義夫;斉藤真紀;廣川能嗣;中野 義夫 他;中野義夫 他;E.Iritani;E.Iritani;E.Iritani;E.Iritani;入谷 英司;入谷 英司;E.Iritani;E.Iritani;E.Iritani;E.Iritani;E.Iritani;E.Iritani;入谷 英司;入谷 英司;E.Iritani;E.Iritani;E.Iritani;E.Iritani;E.Iritani;E.Iritani;E.Iritani;E.Iritani;E.Iritani;入谷 英司;E.Iritani;E.Iritani;E.Iritani;T.Sato et al.;K.Yonekura et al.;H.Hasegawa et al.;K.Yonekura et al.;K.Yonekura et al.;K.Yonekura et al.;Hiroyuki Hasegawa et al.;Kaoru Yonekura et al.;Tomonari Yamamoto et al.;Tomonari Yamamoto et al.;Hiroyuki Hasegawa et al.;Hiroyuki Hasegawa et al.;Tomonari Yamamoto et al.;Hiroyuki Hasegawa et al.;Tomonari Yamamoto et al.
登录
查看更多内容
反应溅射制备W-N和Mo-N薄膜的性能
DOI：
10.1116/1.576882
发表时间：
1990
期刊：
Journal of Vacuum Science and Technology
影响因子：
--
作者：
K. Shih;D. Dove
通讯作者：
D. Dove
通过 EFED、XRD 和 TEM 对非晶和结晶氮化钨薄膜进行结构研究
影响因子：
6.7
作者：
Yaogen Shen;Y. Mai
通讯作者：
Y. Mai
影响因子：
5.4
作者：
Hasegawa, H;Kimura, A;Suzuki, T
通讯作者：
Suzuki, T
溅射 W-N 扩散势垒
DOI：
10.1116/1.572901
发表时间：
1985
期刊：
Journal of Vacuum Science and Technology
影响因子：
--
作者：
H. Kattelus;E. Kolawa;K. Affolter;M. Nicolet
通讯作者：
M. Nicolet
影响因子：
5.4
作者：
Kimura, A;Hasegawa, H;Suzuki, T
通讯作者：
Suzuki, T