The Effect of the Deposition Parameters on the Structure and Properties of CrAlN Films Prepared by Pulsed DC Reactive Sputtering
The Effect of the Deposition Parameters on the Structure and Properties of CrAlN Films Prepared by Pulsed DC Reactive Sputtering
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沉积参数对脉冲直流反应溅射CrAlN薄膜结构和性能的影响
DOI：
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发表时间：
2007
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
他
中科院分区：
文献类型：
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作者：
Sara Kamthe;上田 祥平;野瀬 正照;他
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DOI：
10.1116/1.574428
发表时间：
1987
期刊：
Journal of Vacuum Science and Technology
影响因子：
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作者：
R. G. Johanson;William G. Carruthers
通讯作者：
William G. Carruthers
Cr-Al-N 薄膜脉冲闭场不平衡磁控溅射 (P-CFUBMS) 中脉冲现象的检查
DOI：
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发表时间：
2007
期刊：
影响因子：
--
作者：
Jianliang Lin;J. J. Moore;B. Mishra;W. Sproul;J. Rees
通讯作者：
J. Rees
消失的阳极神话：单磁控管反应性 PVD 的策略和解决方案
影响因子：
5.4
作者：
J. Sellers
通讯作者：
J. Sellers
脉冲序列调制和脉冲能量对结构涂层性能和涂层成分的影响
影响因子：
5.4
作者：
K. Bobzin;E. Lugscheider;M. Maes
通讯作者：
M. Maes
面向靶材溅射制备大克尔旋转角TbFeCo薄膜
影响因子：
3.2
作者：
H. Ito;M. Yamaguchi;M. Naoe
通讯作者：
M. Naoe