Systematic investigations of low energy Ar ion beam sputtering of Si and Ag
Systematic investigations of low energy Ar ion beam sputtering of Si and Ag
复制标题
低能Ar离子束溅射Si、Ag的系统研究
DOI：
10.1016/j.nimb.2013.01.056
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发表时间：
2013
影响因子：
1.3
通讯作者：
B. Rauschenbach
中科院分区：
文献类型：
--
作者：
R. Feder;F. Frost;H. Neumann;C. Bundesmann;B. Rauschenbach
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氙离子束溅射硅靶材发射的二次离子的角分辨能量分布
DOI：
10.1007/bf00324085
发表时间：
1992
期刊：
Applied Physics A
影响因子：
--
作者：
C. Pellet;C. Desgranges;C. Schwebel;J. Aubert
通讯作者：
J. Aubert
二元化合物的角分布和微分溅射产率随入射角的变化
DOI：
10.1016/0167-5087(83)91077-3
发表时间：
1983
期刊：
Nuclear Instruments and Methods in Physics Research
影响因子：
--
作者：
J. Roth;J. Bohdansky;W. Eckstein
通讯作者：
W. Eckstein
影响因子：
2.1
作者：
C. Bundesmann;Inga‐Maria Eichentopf;S. Mändl;H. Neumann
通讯作者：
C. Bundesmann;Inga‐Maria Eichentopf;S. Mändl;H. Neumann
斜入射下稀有气体离子溅射硅靶材发射的二次离子的角分辨能量分布
DOI：
10.1016/0168-583x(93)95814-l
发表时间：
1993
影响因子：
1.3
作者：
C. Pellet;C. Schwebel;Corinne Resseguier
通讯作者：
Corinne Resseguier
激光诱导荧光光谱研究物理溅射中的各向异性效应
影响因子：
3.7
作者：
A. Goehlich;N. Niemoeller;H. Döbele
通讯作者：
H. Döbele