Electroplating using high-aspect-ratio microstructures fabricated by proton beam writing
Electroplating using high-aspect-ratio microstructures fabricated by proton beam writing
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使用质子束写入制造的高深宽比微结构进行电镀
DOI：
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发表时间：
2009
期刊：
影响因子：
--
通讯作者：
T.Kamiya
中科院分区：
文献类型：
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作者：
Y.Seki;Y.Furuta;H.Nishikawa;T.Watanabe;T.Nakata;T.Satoh;Y.Ishii;T.Kamiya
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LIPSION 亚微米结构的质子束写入
DOI：
10.1016/j.nimb.2007.02.056
发表时间：
2007
影响因子：
1.3
作者：
F. Menzel;D. Spemann;S. Petriconi;J. Lenzner;T. Butz
通讯作者：
T. Butz
于韦斯屈莱开发 MeV 离子束光刻系统
DOI：
10.1016/j.nimb.2007.01.260
发表时间：
2007
影响因子：
1.3
作者：
S. Gorelick;Tommi Ylimäki;T. Sajavaara;M. Laitinen;H. Whitlow
通讯作者：
H. Whitlow
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DOI：
10.1016/j.nimb.2007.02.059
发表时间：
2007
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1.3
作者：
P. Mistry;I. Gomez;R. Smith;D. Thomson;G. Grime;R. Webb;R. Gwilliam;C. Jeynes;A. Cansell;M. Merchant;K. Kirkby
通讯作者：
K. Kirkby
负性抗蚀剂材料中的质子束微加工埋置微通道
DOI：
10.1016/j.nimb.2007.02.055
发表时间：
2007
影响因子：
1.3
作者：
I. Rajta;M. Chatzichristidi;E. Baradács;C. Cserháti;I. Raptis;K. Manoli;E. Valamontes
通讯作者：
E. Valamontes
影响因子：
4
作者：
Ansari, K;van Kan, JA;Watt, F
通讯作者：
Watt, F