Metal-mesh lithography.
Metal-mesh lithography.
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DOI：
10.1021/am201305x
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发表时间：
2011-12
影响因子：
9.5
通讯作者：
Wei, Alexander
中科院分区：
文献类型：
--
作者：
Tang, Zhao;Wei, Qingshan;Wei, Alexander
金属网光刻（MML）是微接触印刷和毛细力光刻的一种实用混合，可以应用于毫米大小的区域，具有高水平的均匀性。MML可以通过薄铜网格将各种油墨印迹到基底上来实现，依赖于模板和基底之间的优先润湿和毛细管相互作用来进行图案复制。由此产生的网格图案，这是反转相对于那些由模板印刷或丝网印刷，可以复制低微米分辨率。MML可以与其他表面化学和剥离方法相结合，以创建用于各种应用的功能性微阵列，例如用于成纤维细胞培养的金纳米棒和图案化corpine的周期性岛。
Metal-mesh lithography (MML) is a practical hybrid of microcontact printing and capillary force lithography that can be applied over millimeter-sized areas with a high level of uniformity. MML can be achieved by blotting various inks onto substrates through thin copper grids, relying on preferential wetting and capillary interactions between template and substrate for pattern replication. The resulting mesh patterns, which are inverted relative to those produced by stenciling or serigraphy, can be reproduced with low micrometer resolution. MML can be combined with other surface chemistry and lift-off methods to create functional microarrays for diverse applications, such as periodic islands of gold nanorods and patterned corrals for fibroblast cell cultures.
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