Current–voltage characteristics and fast imaging of HPPMS plasmas: transition from self-organized to homogeneous plasma regimes
Current–voltage characteristics and fast imaging of HPPMS plasmas: transition from self-organized to homogeneous plasma regimes
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HPPMS 等离子体的电流电压特性和快速成像：从自组织到均匀等离子体状态的转变
DOI：
10.1088/0022-3727/46/33/335201
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发表时间：
2013
期刊：
影响因子：
--
通讯作者：
Winter J
中科院分区：
文献类型：
--
作者：
de los Arcos T;Layes V;Aranda Gonzalvo Y;Schulz-von der Gathen V;Hecimovic A;Winter J
在高功率脉冲磁控溅射放电中，记录了不同靶材的时间脉冲内的电流电压特性。这些曲线允许一眼识别分离的等离子体制度的存在，通过等离子体电导率和等离子体发射的空间布置清楚地区分。我们可以确定，高等离子体电导率的制度是明确相关的自我组织的等离子体在明确定义的电离区。随着所施加的功率逐渐增加，高电导率状态突然被与均匀等离子体发射相关联的高电流和低等离子体电导率的状态所取代。
Current–voltage characteristics within the temporal pulse were recorded in high-power pulsed magnetron sputtering discharges for different target materials. These curves allowed identifying at a first glance the existence of separated plasma regimes clearly differentiated by the plasma conductivity and by the spatial arrangement of the plasma emission. We could establish that regimes of high plasma conductivity are univocally associated to the self-organization of the plasma in well-defined ionization zones. As the applied power is gradually increased, the high conductivity regime is abruptly replaced by a regime of high current and low plasma conductivity, associated to homogeneous plasma emission.
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DOI：
10.1116/1.569448
发表时间：
1978-03
期刊：
Journal of Vacuum Science and Technology
影响因子：
--
作者：
J. Thornton
通讯作者：
J. Thornton
高电流脉冲磁控管放电中等离子体不均匀性的光学研究
DOI：
--
发表时间：
2011
期刊：
影响因子：
--
作者：
A. Kozyrev;N. Sochugov;K. Oskomov;A. N. Zakharov;A. N. Odivanova
通讯作者：
A. N. Odivanova
影响因子：
2.1
作者：
F. Papa;H. Gerdes;R. Bandorf;A. Ehiasarian;I. Kolev;G. Braeuer;R. Tietema;T. Krug
通讯作者：
F. Papa;H. Gerdes;R. Bandorf;A. Ehiasarian;I. Kolev;G. Braeuer;R. Tietema;T. Krug
高功率脉冲磁控管等离子体的不稳定性：从随机性到周期性
DOI：
10.1088/0022-3727/46/8/084007
发表时间：
2013
期刊：
Journal of Physics D: Applied Physics
影响因子：
--
作者：
Winter J;Hecimovic A;De los Arcos T;Böke M;Schulz-von der Gathen V
通讯作者：
Schulz-von der Gathen V
HIPIMS 等离子体放电中径向等离子体发射率分布的时间演化
影响因子：
3.8
作者：
Hecimovic A;De los Arcos T;Schulz-von der Gathen V;Böke M;Winter J
通讯作者：
Winter J