Synthesis of hyperbranched polyacetals containing C-(4-t-butylbenz)calix[4]resorcinarene: Resist properties for extreme ultraviolet (EUV) lithography
Synthesis of hyperbranched polyacetals containing C-(4-t-butylbenz)calix[4]resorcinarene: Resist properties for extreme ultraviolet (EUV) lithography
复制标题
含有 C-(4-t-丁基苯并)杯[4]间苯二酚的超支化聚缩醛的合成：极紫外 (EUV) 光刻的抗蚀性能
DOI：
10.1016/j.reactfunctpolym.2018.08.013
复制
发表时间：
2018
影响因子：
5.1
通讯作者：
Watanabe Takeo
中科院分区：
文献类型：
--
作者：
Kudo Hiroto;Fukunaga Mari;Shiotsuki Kohei;Takeda Hiroya;Yamamoto Hiroki;Kozawa Takahiro;Watanabe Takeo
登录
查看更多内容
影响因子：
0.8
作者：
Nishikubo, Tadatomi;Kudo, Hiroto;Itani, Toshiro
通讯作者：
Itani, Toshiro
烷氧基和金刚酯侧基Noria（水轮状大环）衍生物的合成、性能及其在极紫外（EUV）抗蚀剂中的应用
影响因子：
2.1
作者：
Nobumitsu Niina;Hiroto Kudo;Hiroaki Oizumi;Toshiro Itani;and Tadatomi Nishikubo
通讯作者：
and Tadatomi Nishikubo
通过 + b2 型加聚合成超支化聚缩醛（n = 3、8、18 和 21）：抗极紫外光刻的候选材料
DOI：
--
发表时间：
2015
期刊：
影响因子：
--
作者：
Hiroto Kudo;Shuhei Matsubara;Hiroki Yamamoto;T. Kozawa
通讯作者：
T. Kozawa
超支化聚缩醛的合成及抗蚀性能
影响因子：
0.8
作者：
Hiroto Kudo;Shuhei Matsubara;Hiroki Yamamoto;T. Kozawa
通讯作者：
T. Kozawa
影响因子：
--
作者：
Kudo, Hiroto;Suyama, Yuji;Nishikubo, Tadatomi
通讯作者：
Nishikubo, Tadatomi