Direction-identical scratching method for fabricating nanostructures using a modified AFM nanoscratching system
Direction-identical scratching method for fabricating nanostructures using a modified AFM nanoscratching system
复制标题
使用改进的 AFM 纳米划痕系统制造纳米结构的同向划痕方法
DOI：
10.1116/1.4906790
复制
发表时间：
2015-01
影响因子：
1.4
通讯作者：
Zhao Xuesen
中科院分区：
文献类型：
--
作者：
Geng Yanquan;Yu Bowen;Yan Yongda;Hu Zhenjiang;Zhao Xuesen
为了加工出深度和质量一致的纳米结构，提出了一种基于改进的原子力显微镜(AFM)探针加工系统的方向一致划痕新方法。在划痕过程中，通过旋转或/和移动安装在改进的AFM系统工作台上的样品，精确地保持优化的划痕方向。详细介绍了该划痕方法的具体步骤，与传统划痕方法相比，具有质量优化、深度一致等多重优点。用这种方向一致的划痕方法加工了纳米线和纳米沟道图形，证明了这种方法是高效的。
To machine nanostructures with consistent depth and quality, a novel direction-identical scratching method based on a modified atomic force microscopy (AFM) probe-based machining system is proposed. During scratching, the optimized scratching direction is precisely maintained by rotating or/and moving the sample mounted on the stage of a modified AFM system. The specific procedures of this scratching method are described in detail and, compared to the conventional method, have the multiple advantages of optimized quality and consistent depth. Also, nanoline and nanochannel patterns are machined using this direction-identical scratching method, which is proved to be highly efficient.
登录
查看更多内容
影响因子：
1.4
作者：
M. Stern;M. Geis;Jane E. Curtin
通讯作者：
M. Stern;M. Geis;Jane E. Curtin
影响因子：
7.4
作者：
Menard, Laurent D.;Ramsey, J. Michael
通讯作者：
Ramsey, J. Michael
DOI：
10.1063/1.4869474
发表时间：
2014-03
期刊：
The Review of scientific instruments
影响因子：
--
作者：
Sang Heon Lee
通讯作者：
Sang Heon Lee
影响因子：
10.8
作者：
Guo, LJ;Cheng, X;Chou, CF
通讯作者：
Chou, CF
悬臂变形和针尖-样品接触面积对 AFM 纳米划痕的影响
影响因子：
1.4
作者：
Geng, Yanquan;Yan, Yongda;Hu, Zhenjiang
通讯作者：
Hu, Zhenjiang