Local electrical characteristics of ultra-thin SiO_2 films formed on Si(100) surfaces
Local electrical characteristics of ultra-thin SiO_2 films formed on Si(100) surfaces
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Si(100)表面超薄SiO_2薄膜的局部电学特性
DOI：
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发表时间：
2001
期刊：
影响因子：
--
通讯作者：
Y.Yasuda
中科院分区：
文献类型：
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作者：
H.Ikeda;N.Kurumado;K.Ohmori;M.Sakashita;A.Sakai;S.Zaima;Y.Yasuda
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