Technology mapping technique for enhancing throughput of multi-column-cell systems
Technology mapping technique for enhancing throughput of multi-column-cell systems
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提高多列单元系统吞吐量的技术映射技术
DOI：
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发表时间：
2007
期刊：
影响因子：
--
通讯作者：
K.Murakami
中科院分区：
文献类型：
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作者：
M.Sugihara;Y.Matsunaga;K.Murakami
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用于提高电子束直写光刻系统吞吐量的单元库开发方法
DOI：
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发表时间：
2005
期刊：
Proc.IEEE International Symposium on System-on-Chip N/A
影响因子：
--
作者：
M.Sugihara;T.Takata;K.Nakamura;R.Inanami;H.Hayashi;K.Kishimoto;T.Hasebe;Y.Kawano;Y.Matsunaga;K.Murakami K.Okumura
通讯作者：
K.Murakami K.Okumura
无掩模光刻：共CP孔径的低能电子束直写系统及最新进展
DOI：
10.1117/12.483607
发表时间：
2003
期刊：
SPIE Advanced Lithography
影响因子：
--
作者：
T. Nakasugi;A. Ando;R. Inanami;N. Sasaki;T. Ota;Osamu Nagano;Y. Yamazaki;K. Sugihara;I. Mori;M. Miyoshi;K. Okumura;A. Miura
通讯作者：
A. Miura
电子束单元投影光刻系统
影响因子：
1.4
作者：
Y. Sakitani;H. Yoda;H. Todokoro;Y. Shibata;T. Yamazaki;K. Ohbitu;N. Saitou;S. Moriyama;S. Okazaki;G. Matuoka;F. Murai;M. Okumura
通讯作者：
M. Okumura
一种小批量多品种设计的字符投影低能电子束直写系统
DOI：
10.1117/12.655963
发表时间：
2006
期刊：
SPIE Advanced Lithography
影响因子：
--
作者：
F. Nakamura;Katsuhide Watanabe;H. Kinoshita;Hiroyuki Shinozaki;Yasushi Kojima;S. Morita;K. Noguchi;Norihiro Yamaguchi;Hisashi Isokawa;Kazuhiko Kushitani;Takayuki Satoh;T. Koshiba;Takumi Oota;T. Nakasugi;H. Mizuno
通讯作者：
H. Mizuno
用于大规模生产 VLSI 器件的电子束光刻技术的最新进展
影响因子：
3.1
作者：
H. C. Pfeiffer
通讯作者：
H. C. Pfeiffer