Direct Observation of Removal of SiO2 Nano-Particles from Silica Surfaces: Evanescent Field Microscopy Study and Shear Flow Acting Moment(校閲中)

Direct Observation of Removal of SiO2 Nano-Particles from Silica Surfaces: Evanescent Field Microscopy Study and Shear Flow Acting Moment(校閲中)
复制标题

直接观察二氧化硅表面去除 SiO2 纳米颗粒的情况:倏逝场显微镜研究和剪切流作用力矩(正在审查)

DOI:
--
复制
发表时间:
2023
影响因子:
1.5
通讯作者:
Hirokuni Hiyama
Hirokuni Hiyama
中科院分区:
物理与天体物理4区
文献类型:
--
作者:
Yutaka Terayama;Panart Khajornrungruang;Keisuke Suzuki;Hibiki Fujishima;Hamada Satomi;Yutaka Wada;Hirokuni Hiyama

文献摘要

参考文献

相似文献

用于测定倏逝场中单个亚 100 纳米颗粒尺寸的光散射模型
DOI: 10.7567/jjap.55.06jg02
发表时间: 2016
影响因子: 1.5
作者:
P. Khajornrungruang;Sevim Korkmaz;Pal Angshuman;Keisuke Suzuki;K. Kimura;S. Babu
通讯作者: S. Babu
倏逝场实时观察 PVA 刷擦洗过程中的纳米级清洁现象
DOI: 10.1149/09202.0191ecst
发表时间: 2019
期刊: ECS Transactions
影响因子: --
作者:
Yutaka Terayama;P. Khajornrungruang;Keisuke Suzuki;Kohei Kusatsu;Satomi Hamada;Y. Wada;Hirokuni Hiyama
通讯作者: Hirokuni Hiyama
开发用于硅晶片微缺陷检测的倏逝光测量系统
DOI: --
发表时间: 2005
期刊: Key Engineering Materials 295-296
影响因子: --
作者:
S.Takagi;T.Mizuno;T.Tezuka;N.Sugiyama;S.Nakaharai;T.Numata;J.Kogaand.K.Uchida;S.Takahashi
通讯作者: S.Takahashi
CMP 材料去除过程中晶圆和抛光垫之间浆料流中细颗粒行为的研究
DOI: --
发表时间: 2012
期刊: --
影响因子: --
作者:
K. Kimura;Keisuke Suzuki;P. Khajornrungruang
通讯作者: P. Khajornrungruang
兆频超声波清洗工艺的评估
DOI: --
发表时间: 2004
期刊: --
影响因子: --
作者:
F. Holsteyns;A. Riskin;G. Vereecke;A. Maes;P. Mertens
通讯作者: P. Mertens