原子層成長法による酸化ビスマスの成長
原子層成長法による酸化ビスマスの成長
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原子层沉积法生长氧化铋
DOI：
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发表时间：
2016
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
坂間 弘
中科院分区：
文献类型：
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作者：
平林 三寛;田中 優;小松 周平;坂間 弘
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连续表面化学反应控制生长的多层膜的制造
DOI：
10.1143/jjap.33.7086
发表时间：
1994
期刊：
影响因子：
--
作者：
H. Kumagai;M. Matsumoto;Y. Kawamura;K. Obara
通讯作者：
K. Obara
原位椭圆测量诊断通过表面化学反应控制金属氧化物的生长
DOI：
10.1016/0169-4332(94)90262-3
发表时间：
1994
期刊：
影响因子：
--
作者：
H. Kumagai;K. Toyoda
通讯作者：
K. Toyoda
Al(CH3)3/N2O与Al(CH3)3/H2O2气相组合生长Al2O3光学晶体薄膜的对比研究
DOI：
10.1143/jjap.32.6137
发表时间：
1993
期刊：
影响因子：
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作者：
H. Kumagai;K. Toyoda;M. Matsumoto;M. Obara
通讯作者：
M. Obara
影响因子：
4
作者：
H. Kumagai;K. Toyoda;K. Kobayashi;M. Obara;Y. Iimura
通讯作者：
H. Kumagai;K. Toyoda;K. Kobayashi;M. Obara;Y. Iimura
蓝宝石 (0 0 1) 衬底上 TiCl4 和 H2O 原子层外延金红石薄膜的自限性
DOI：
10.1016/j.jcrysgro.2010.12.003
发表时间：
2011
期刊：
影响因子：
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作者：
H. Kumagai;Y. Masuda;T. Shinagawa
通讯作者：
T. Shinagawa